[發(fā)明專利]在MEMS傳感器上形成過濾網(wǎng)的方法以及MEMS傳感器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611041741.X
• 申請日: 2016-11-22
• 公開（公告）號: CN106744664B
• 公開（公告）日: 2019-01-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 詹竣凱;周宗燐;邱冠勳;蔡孟錦
• 申請（專利權(quán)）人: 歌爾股份有限公司
• 主分類號: B81C3/00
• 分類號: B81C3/00;B81B7/00
• 代理公司: 北京博雅睿泉專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11442
• 代理人: 王昭智;馬佑平

1.一種在MEMS傳感器上形成過濾網(wǎng)的方法，其特征在于，包括以下步驟：

在基材(13 )上設(shè)置可解離膠帶，在可解離膠帶的粘接面上形成過濾網(wǎng)(11)，所述過濾網(wǎng)(11)的網(wǎng)孔采用黃光微影方法或者納米壓印方法形成；

將所述過濾網(wǎng)(11)轉(zhuǎn)印到薄膜(14)上，以形成自粘卷材(15)；

將位于所述自粘卷材(15)上的所述過濾網(wǎng)(11)轉(zhuǎn)移粘接到MEMS傳感器的采集孔(16)上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在形成過濾網(wǎng)(11)步驟中包括：

在所述可解離膠帶的粘接面上設(shè)置光刻膠；

采用黃光微影方法對所述光刻膠進行刻蝕，以形成與所述過濾網(wǎng)(11)的骨架相匹配的第一鏤空圖形；

在所述第一鏤空圖形內(nèi)沉積結(jié)構(gòu)材料；

移除光刻膠以形成所述過濾網(wǎng)(11)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在形成過濾網(wǎng)(11)步驟中包括：

在所述可解離膠帶的粘接面上沉積結(jié)構(gòu)材料；

在所述結(jié)構(gòu)材料的表面上設(shè)置光刻膠；

采用黃光微影方法對所述光刻膠進行刻蝕，以形成與所述過濾網(wǎng)(11)的網(wǎng)孔相匹配的第二鏤空圖形；

根據(jù)第二鏤空圖形對所述結(jié)構(gòu)材料進行刻蝕，以形成網(wǎng)孔；

移除光刻膠以形成所述過濾網(wǎng)(11)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任意一項所述的方法，其特征在于，形成所述過濾網(wǎng)(11)的結(jié)構(gòu)材料為金屬、陶瓷或者高分子材料。

5.根據(jù)權(quán)利要求2或者3所述的方法，其特征在于，采用低溫真空濺鍍方法沉積所述結(jié)構(gòu)材料。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述過濾網(wǎng)(11)的網(wǎng)孔的尺寸小于等于30μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在形成過濾網(wǎng)(11)步驟中包括：

在所述可解離膠帶的粘接面上設(shè)置光刻膠；

采用黃光微影方法對所述光刻膠進行刻蝕，以形成所述過濾網(wǎng)(11)；

加熱刻蝕形成的所述過濾網(wǎng)(11)，以使其固化。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在形成過濾網(wǎng)(11)步驟中包括：

在所述可解離膠帶的粘接面上設(shè)置光刻膠；

采用納米壓印方法對所述光刻膠進行壓印，以形成所述過濾網(wǎng)(11)；

加熱刻蝕形成的所述過濾網(wǎng)(11)，以使其固化。

9.一種MEMS傳感器，其特征在于，包括由基板和外殼(19)圍合形成的外部封裝結(jié)構(gòu)，以及設(shè)置在所述外部封裝結(jié)構(gòu)的內(nèi)部的MEMS芯片(18)，所述外部封裝結(jié)構(gòu)具有連通所述MEMS芯片(18)和外部空間的采集孔(16)，在所述采集孔(16)上根據(jù)如權(quán)利要求1-8中的任意之一所述的方法設(shè)置有所述過濾網(wǎng)(11)。