[發(fā)明專利]成像儀不同焦面譜段配準(zhǔn)精度測(cè)試方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611039350.4 | 申請(qǐng)日: | 2016-11-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106768391B | 公開(公告)日: | 2019-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何軍;楊勇;代海山;孫允珠;蔣光偉;李云端;葉擎昊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海衛(wèi)星工程研究所 |
| 主分類號(hào): | G01J5/52 | 分類號(hào): | G01J5/52;G01J3/28 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236 | 代理人: | 郭國(guó)中 |
| 地址: | 200240 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成像儀 靶標(biāo) 成像 精密轉(zhuǎn)臺(tái) 探測(cè)器 焦面 精度測(cè)試 最大像元 轉(zhuǎn)臺(tái) 配準(zhǔn) 像元 光源 地面設(shè)備 方向調(diào)整 光軸重合 平行光管 圖像融合 輸出 空間維 記錄 加電 精密 平行 | ||
本發(fā)明提供了一種成像儀不同焦面譜段配準(zhǔn)精度測(cè)試方法,包括以下步驟:步驟一,將待測(cè)成像儀放置在精密轉(zhuǎn)臺(tái)上;步驟二,成像儀、光源及地面設(shè)備加電,調(diào)整光源、靶標(biāo)及平行光管的中心與待測(cè)成像儀的光軸重合,確保靶標(biāo)可成像在探測(cè)器上;步驟三,調(diào)整精密轉(zhuǎn)臺(tái)平面與探測(cè)器空間維平行;步驟四,調(diào)整精密轉(zhuǎn)臺(tái),使靶標(biāo)成像于第一譜段的某一像元,獲得最大像元輸出值并記錄轉(zhuǎn)臺(tái)角度;步驟五,按照譜段維方向調(diào)整精密轉(zhuǎn)臺(tái),使靶標(biāo)成像于另一探測(cè)器焦面第二譜段的像元上,獲得最大像元輸出值并記錄轉(zhuǎn)臺(tái)角度。本發(fā)明滿足成像儀不同譜段圖像融合質(zhì)量的要求。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種測(cè)試方法,具體地,涉及一種成像儀不同焦面譜段配準(zhǔn)精度測(cè)試方法。
背景技術(shù)
多光譜圖像是由光譜成像儀對(duì)同一地物在幾個(gè)到幾十個(gè)不同譜段上成像所獲取的一種三維立體圖像,同時(shí)包含了地物的空間和光譜信息,目前廣泛應(yīng)用于資源勘探、目標(biāo)識(shí)別、環(huán)境保護(hù)等方面。
對(duì)于工作譜段范圍較窄的成像儀,通常采用一體化的探測(cè)器進(jìn)行成像,但隨著遙感技術(shù)的不斷發(fā)展,寬工作譜段范圍、高分辨率、大幅寬已成為成像儀發(fā)展的必然趨勢(shì),導(dǎo)致成像儀主光學(xué)設(shè)計(jì)采用分光路或分視場(chǎng)的形式將光信息匯聚到不同的探測(cè)器焦面上。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷,本發(fā)明的目的是提供一種成像儀不同焦面譜段配準(zhǔn)精度測(cè)試方法,其滿足成像儀不同譜段圖像融合質(zhì)量的要求。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供一種成像儀不同焦面譜段配準(zhǔn)精度測(cè)試方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一,將待測(cè)成像儀放置在精密轉(zhuǎn)臺(tái)上;
步驟二,成像儀、光源及地面設(shè)備加電,調(diào)整光源、靶標(biāo)及平行光管的中心與待測(cè)成像儀的光軸重合,確保靶標(biāo)可成像在探測(cè)器上;
步驟三,調(diào)整精密轉(zhuǎn)臺(tái)平面與探測(cè)器空間維平行;
步驟四,調(diào)整精密轉(zhuǎn)臺(tái),使靶標(biāo)成像于第一譜段的某一像元,獲得最大像元輸出值并記錄轉(zhuǎn)臺(tái)角度;
步驟五,按照譜段維方向調(diào)整精密轉(zhuǎn)臺(tái),使靶標(biāo)成像于另一探測(cè)器焦面第二譜段的像元上,獲得最大像元輸出值并記錄轉(zhuǎn)臺(tái)角度;
步驟六,根據(jù)步驟四和步驟五獲得的兩次轉(zhuǎn)臺(tái)角度計(jì)算第一譜段與第二譜段間的配準(zhǔn)精度;
步驟七,其他譜段間的配準(zhǔn)精度可按照步驟一至步驟六測(cè)試;或者工藝保證同一焦面譜段間的配準(zhǔn)精度,通過(guò)每?jī)蓚€(gè)不同焦面間某一譜段間的配準(zhǔn)精度,獲得所有譜段間的配準(zhǔn)精度。
優(yōu)選地,所述步驟一中的精密轉(zhuǎn)臺(tái)調(diào)節(jié)精度應(yīng)具有較高精度,優(yōu)于波段配準(zhǔn)精度要求的1/3。
優(yōu)選地,所述步驟三中調(diào)整精密轉(zhuǎn)臺(tái)平面與探測(cè)器空間維平行可通過(guò)基準(zhǔn)棱鏡標(biāo)定或靶標(biāo)成像調(diào)節(jié)方法實(shí)現(xiàn);精密轉(zhuǎn)臺(tái)平面與探測(cè)器空間維的平行度優(yōu)于波段配準(zhǔn)精度要求的1/3。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有如下的有益效果:本發(fā)明填補(bǔ)了現(xiàn)有技術(shù)中的空白;本發(fā)明為成像儀圖像融合處理提供譜段配準(zhǔn)偏差依據(jù),提高融合圖像質(zhì)量。
附圖說(shuō)明
通過(guò)閱讀參照以下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述,本發(fā)明的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更明顯:
圖1為成像儀不同焦面譜段配準(zhǔn)精度測(cè)試示意圖。
圖2為精密轉(zhuǎn)臺(tái)方位角、俯仰角定義示意圖。
圖3為在微調(diào)精密轉(zhuǎn)臺(tái)過(guò)程中記錄精密轉(zhuǎn)臺(tái)俯仰角與像元輸出DN值的關(guān)系的示意圖。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海衛(wèi)星工程研究所,未經(jīng)上海衛(wèi)星工程研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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