[發明專利]一種用于玻璃和半導體精細拋光的磨料配方

在審

• 申請號: 201610996134.2
• 申請日: 2016-11-12
• 公開（公告）號: CN108070357A
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發明（設計）人: 黃志萍;喻翠云;劉振宇
• 申請（專利權）人: 黃志萍;喻翠云
• 主分類號: C09K3/14
• 分類號: C09K3/14;C09G1/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

一種用于玻璃和半導體精細拋光的磨料配方，包括粘合劑、活性稀釋劑、引發劑、防老劑、增塑劑和固體磨料。粘合劑為聚丙烯酸酯類，活性稀釋劑為丙烯酸酯類反應性單體，采用紫外光引發或加熱快速固化，固體磨料為硅鈣石，碳酸鈣，剛玉，金剛石，氧化硅，二硫化鉬，碳化硅等中的一種或幾種，固化后磨料具有耐水、耐酸堿腐蝕，硬度、磨損率適中，拋光細膩等優點。

技術領域

本發明屬于高分子復合材料應用領域。

背景技術

目前水晶(裝飾玻璃)在燈具、服飾等在日常生活中得到廣泛應用，而光學玻璃、半導體則是光學儀器、家用數碼產品及電子器件的關鍵部件。目前我國用于水晶玻璃、光學玻璃和半導體的精細研磨加工主要是以樹脂研磨盤進行加工。而現有樹脂研磨料價格較高，且易出現磨損率過大或過小，造成磨料消耗過快造成浪費或固體磨料難以露出，打磨效率過低的現象。目前許多專利均是以聚丙烯酸酯為基體的聚合物復合材料。公開號為CN101817172A的中國專利基于熱引發固化的固結磨料研磨拋光墊及其制備方法公開了基于熱引發固化的固結磨料研磨拋光墊及其制備方法，但制備該種研磨墊所用磨料配方需要在烘箱進行加熱烘烤成型，其工藝方法效率較低，并且易導致制備的研磨墊內部固體料的分布不均勻，研磨中易出現氣孔，密度較小，機械強度較差，影響研磨墊的使用壽命。公開號為CN102632453A的中國專利公開了一種熱固性樹脂研磨墊及其制備方法，采用聚丙烯酸酯類的預聚物180℃熱固化，該配方成分較為復雜，使用較多金剛石并添加金屬粉，成本較高。公開號為CN101428404A的中國專利公開了固結磨料研磨拋光墊及其制備方法，采用光固化引發劑，該配方成分亦較為復雜，其所用許多成分難以達到其所表達的效果。公開號為CN101096080A的中國專利公開了具有自修正功能的固結磨料研磨拋光墊及制備方法，采用自由基光引發劑，但配方中聚合物含量較高，固體磨料較少，易出現打磨效率過低的現象。

發明內容

本發明針對目前現有磨料配方的問題，發明一種用于玻璃和半導體精細拋光的磨料配方，本發明包括以下技術內容：

磨料配方包括粘合劑、活性稀釋劑、引發劑、防老劑、增塑劑和固體磨料。

粘合劑采用聚丙烯酸酯，聚酯改性聚丙烯酸酯，環氧改性聚丙烯酸酯中的一種或幾種，采用紫外光引發固化或加熱固化，其總含量為20%-40%。

活性稀釋劑采用甲基丙烯酸乙酯，甲基丙烯酸甲酯，二縮三丙二醇二丙烯酸酯，季戊四醇三丙烯酸酯，丙烯酸甲氧乙酯，丙烯酸乙氧乙酯等反應性單體。

固化引發劑為1-羥基環己烷苯甲酮， 2-羥基-2-甲基-1-苯基丙酮，偶氮二異丁腈，過氧化氫異丙苯，過氧化二異丙苯，氟化二苯基鈦茂等中的一種或幾種，其總含量為0.05%-2%。

防老劑可以是雙酚A，防老劑RD，防老劑AW，防老劑264，防老劑 445等中的一種或幾種，其總含量為0.1%-3%。

增塑劑為鄰苯二甲酸二丁酯，鄰苯二甲酸二辛酯，鄰苯二甲酸二異辛酯中的一種或幾種，其總含量為1%-10%。

固體磨料為硅鈣石，碳酸鈣，剛玉，金剛石，氧化硅，二硫化鉬，碳化硅等中的一種或幾種，各固體磨料的粒度小于50μm，D50為1~10μm，其總含量為60%-80%。

按配方混合好的磨料可用模具在PET膜上制成0.5-3 mm厚的合適形狀，由紫外光照射10~30s快速固化，也可加熱至80~120℃10~60min固化。

磨料配方或除固體磨料的上述有機物料混合后，在0~38℃條件下保存在黑色塑料瓶中，可保持6個月不變質。

固化后磨料具有耐水、耐酸堿腐蝕，硬度、磨損率適中，拋光細膩等優點。

具體實施方式

以下實施例用于說明本發明，但不用來限制本發明的范圍。

實例1