[發明專利]ICP刻蝕機臺及其絕緣窗口薄膜加熱器裝置和溫度控制方法

有效

• 申請號: 201610936885.5
• 申請日: 2016-11-01
• 公開（公告）號: CN108022852B
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發明（設計）人: 左濤濤;吳狄
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249
• 代理人: 周乃鑫

1.一種絕緣窗口薄膜加熱器裝置，其特征在于，該裝置包含：設置于絕緣窗口頂部的電絕緣板，設置于電絕緣板上的粘結層，設置在粘結層上的薄膜加熱器；

所述薄膜加熱器通過粘結層與電絕緣板固定形成一個加熱模塊，加熱模塊通過電絕緣板固定于絕緣窗口頂部；

所述電絕緣板與絕緣窗口之間還設有導熱墊片，所述導熱墊片的熱傳導率低于絕緣窗口和電絕緣板。

2.如權利要求1所述的絕緣窗口薄膜加熱器裝置，其特征在于，所述電絕緣板的厚度范圍取1至50毫米。

3.如權利要求1或2所述的絕緣窗口薄膜加熱器裝置，其特征在于，所述絕緣窗口薄膜加熱器裝置還包含一機械夾持裝置，將所述加熱模塊固定到絕緣窗口。

4.如權利要求1或2所述的絕緣窗口薄膜加熱器裝置，其特征在于，所述電絕緣板中還包含一個電極，連接到一個高壓直流電源，使得所述加熱模塊靜電吸附到所述絕緣窗口上。

5.如權利要求1所述的絕緣窗口薄膜加熱器裝置，其特征在于，所述導熱墊片由硅膠和/或陶瓷制成。

6.如權利要求1所述的絕緣窗口薄膜加熱器裝置，其特征在于，所述絕緣窗口薄膜加熱器裝置還包含電路連接薄膜加熱器的溫度控制模塊，溫度控制模塊根據絕緣窗口的溫度信息控制對薄膜加熱器的輸出功率。

7.一種如權利要求6所述的絕緣窗口薄膜加熱器裝置的溫度控制方法，其特征在于，該溫度控制方法包含：

溫度控制模塊接收絕緣窗口的溫度信息，根據絕緣窗口的溫度信息控制薄膜加熱器的輸出功率；

當絕緣窗口的溫度下降，提高薄膜加熱器的輸出功率；

當絕緣窗口的溫度上升，降低薄膜加熱器的輸出功率。

8.一種ICP刻蝕機臺，其特征在于，該機臺包含：

反應腔，用于進行等離子處理工藝；

反應腔頂蓋，其設置于反應腔頂部；

外罩結構，其設置于反應腔頂部上方，反應腔頂蓋與外罩結構之間形成容置空間；

冷卻用風扇，其設置于外罩結構頂部；

絕緣窗口，其設置于反應腔頂蓋上；

RF線圈，其設置于反應腔頂蓋與外罩結構形成的容置空間內；

所述機臺還包含如權利要求1至6中任意一項權利要求所述的絕緣窗口薄膜加熱器裝置，該窗口薄膜加熱器裝置設置于絕緣窗口上，位于反應腔頂蓋與外罩結構形成的容置空間內。