[發(fā)明專利]磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610925894.4 | 申請日: | 2016-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN108010547B | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳卓凡;宋以斌;張海洋 | 申請(專利權(quán))人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司 |
| 主分類號: | G11C11/16 | 分類號: | G11C11/16 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 曲瑞 |
| 地址: | 201203 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁性 隨機(jī) 存儲(chǔ)器 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器及其制造方法,涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。該磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器包括:字線、位線和位于該字線和該位線之間的存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元包括:與該位線連接的固定層,與該字線連接的自由層,以及位于該固定層與該自由層之間的絕緣物層。本發(fā)明的磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器的結(jié)構(gòu)比較簡單,從而可以簡化制造工藝,提高工藝集成度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器及其制造方法。
背景技術(shù)
MRAM(Magnetic Random Access Memory,磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器)是指以磁電阻性質(zhì)來存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的隨機(jī)存儲(chǔ)器。它采用磁化的方向不同所導(dǎo)致的磁電阻不同來記錄0和1,只要外部磁場不改變,磁化的方向就不會(huì)變化。
現(xiàn)有的平面型MRAM由三層薄膜構(gòu)成,包括:與位線相連的自由層、與字線相連的固定層和被自由層和固定層夾著的絕緣物層,其中,自由層的磁場極化方向是可以改變的,而固定層的磁場極化方向固定不變。當(dāng)自由層與固定層的磁場方向平行時(shí),存儲(chǔ)單元呈現(xiàn)低電阻,可以存儲(chǔ)數(shù)據(jù)0;當(dāng)磁場方向相反時(shí),存儲(chǔ)單元呈現(xiàn)高電阻,可以存儲(chǔ)數(shù)據(jù)1。
然后,隨著技術(shù)要求的增加,現(xiàn)有的平面型MRAM越來越受限制,而三維MRAM越來越受到重視。圖1示出了一種三維磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器的結(jié)構(gòu)。這種三維MRAM的連接關(guān)系與平面型MRAM類似:固定層101連接字線105,自由層103連接位線104,固定層101和自由層103之間夾著絕緣物層102。然而在制造該三維MRAM的過程中,需要在層間電介質(zhì)型106中形成凹陷或空隙,然后在該凹陷或空隙中通過ALD(Atomic Layer Deposition,原子層沉積)工藝形成三層薄膜,即自由層103、絕緣物層102和固定層101(如圖1中虛線框中所示),這樣的工藝難度比較大。而且由于側(cè)壁內(nèi)凹的薄膜生長容易產(chǎn)生各種缺陷,比如即使是ALD薄膜也會(huì)受到形狀的影響。因此生長三層薄膜的工藝也會(huì)影響器件的性能。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明需要解決的一個(gè)技術(shù)問題是:提供一種磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面,提供了一種磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器,包括:字線、位線和位于所述字線和所述位線之間的存儲(chǔ)單元,所述存儲(chǔ)單元包括:與所述位線連接的固定層,與所述字線連接的自由層,以及位于所述固定層與所述自由層之間的絕緣物層。
在一個(gè)實(shí)施例中,所述磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器包括多個(gè)所述存儲(chǔ)單元,其中,所述多個(gè)存儲(chǔ)單元的固定層為共用的固定層。
在一個(gè)實(shí)施例中,其中,所述多個(gè)存儲(chǔ)單元的絕緣物層為共用的絕緣物層。
在一個(gè)實(shí)施例中,在所述多個(gè)存儲(chǔ)單元中,相鄰的存儲(chǔ)單元的自由層間隔開。
在一個(gè)實(shí)施例中,其中,所述多個(gè)存儲(chǔ)單元的自由層沿著所述絕緣物層的延伸方向排列。
在一個(gè)實(shí)施例中,所述磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器包括多個(gè)字線,其中每個(gè)字線與相應(yīng)的存儲(chǔ)單元的自由層連接。
在一個(gè)實(shí)施例中,所述磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器還包括:位于相鄰的自由層之間的層間電介質(zhì)層。
在一個(gè)實(shí)施例中,所述固定層包繞在所述位線的表面上,所述絕緣物層包繞在所述固定層的表面上,所述自由層包繞在所述絕緣物層的表面上。
在一個(gè)實(shí)施例中,所述磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器還包括:襯底,其中所述字線、所述位線和所述存儲(chǔ)單元位于所述襯底之上,所述絕緣物層的延伸方向垂直于所述襯底的上表面。
在一個(gè)實(shí)施例中,所述固定層為磁性固定層,所述自由層為磁性自由層。
本發(fā)明提供了一種磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器。該磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器的結(jié)構(gòu)比較簡單,從而可以簡化制造工藝。
進(jìn)一步地,相比現(xiàn)有MRAM的性能,本發(fā)明的磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器的性能也得到了提高。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司,未經(jīng)中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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