[發明專利]EUV用防塵薄膜組件在審
| 申請號： | 201610896178.8 | 申請日： | 2016-10-14 |
| 公開（公告）號： | CN106597806A | 公開（公告）日： | 2017-04-26 |
| 發明（設計）人： | 堀越淳 | 申請（專利權）人： | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號： | G03F1/62 | 分類號： | G03F1/62 |
| 代理公司： | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司11280 | 代理人： | 郭廣迅 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | euv 防塵 薄膜 組件 | ||
1.一種EUV用防塵薄膜組件，至少具有防塵膜，所述防塵膜在一方的端面上通過接著層貼附的防塵薄膜組件框架，所述防塵薄膜組件框架的另一方的端面上設置的粘著層，其特征在于，所述接著層為對接著劑100質量份添加熱傳導性充填劑100～4，000質量份的接著劑組合物的EUV用防塵薄膜組件。
2.根據權利要求1的EUV用防塵薄膜組件，其特征在于，EUV用防塵薄膜組件的熱傳導性充填劑為從由金屬氧化物的粉末，金屬碳酸鹽的粉末，金屬氫氧化物的粉末，氮化物的粉末，碳化硅的粉末以及金剛石的粉末組成的組中選擇的至少1種。
3.根據權利要求1的EUV用防塵薄膜組件，其特征在于，熱傳導性充填劑為從由氧化鋁，氧化鈦以及氧化鋅組成的群中選擇的至少1種。
4.根據權利要求1的EUV用防塵薄膜組件，其特征在于，所述熱傳導性充填劑為，從由氫氧化鋁以及氫氧化鎂組成的組中選擇的至少1種。
5.根據權利要求1的EUV用防塵薄膜組件，其特征在于，其中所述熱傳導性充填劑為從由氮化硼以及氮化鋁組成的組中選擇的至少1種。
6.根據權利要求1～5的任一項的EUV用防塵薄膜組件，其中所述接著劑為有機硅系接著劑。
7.根據權利要求1～5的任一項的EUV用防塵薄膜組件，其中接著劑為丙烯酸系接著劑。
8.根據權利要求1～5的任一項的EUV用防塵薄膜組件，其中接著劑的150℃×1000小時的耐熱試驗后的鋁拉伸剪切接著強度為試驗前的初期值的70％以上的值。
9.根據權利要求1～5的任一項的EUV用防塵薄膜組件，其中接著劑為從由信越化學工業株式會社制的商品名KE－101A/B，KE－1285A/B，KE－1803A/B/C，KE－1854，KE－1880的產品以及綜研化學株式會社制的商品名SK－1425產品組成的群中選擇的至少1種。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
