[發(fā)明專利]用于確定光斑位置的方法和設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610880649.6
• 申請日: 2016-10-09
• 公開（公告）號: CN107917665B
• 公開（公告）日: 2020-02-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 詹焰坤;張振生;施耀明;徐益平
• 申請（專利權(quán)）人: 睿勵科學(xué)儀器(上海)有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00
• 代理公司: 11256 北京市金杜律師事務(wù)所
• 代理人: 鄭立柱

1.一種用于確定光斑位置的方法，包括以下步驟：

測量針對照射在待測區(qū)域上的第一入射光束的第一反射光譜；

測量針對照射在所述待測區(qū)域上的第二入射光束的第二反射光譜，其中所述第一入射光束和所述第二入射光束的方位角相差180°；以及

如果所述第一反射光譜和所述第二反射光譜之間的差異小于預(yù)定閾值，則確定所述第一入射光束和所述第二入射光束在所述待測區(qū)域上的光斑中心處于所述待測區(qū)域的幾何中心。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

在測量之前確定所述待測區(qū)域的所述幾何中心，以輔助所述第一入射光束的照射。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中在放大的視場中選出所述幾何中心。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中通過所述待測區(qū)域的各個頂點(diǎn)的坐標(biāo)來計算出所述幾何中心。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一反射光譜和所述第二反射光譜之間的差異包括：

所述第一反射光譜和所述第二反射光譜之間的均方根差或擬合優(yōu)度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

如果所述差異大于所述預(yù)定閾值，校正所述第一入射光束的照射；

重復(fù)執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1所述的步驟。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中校正所述第一入射光束的照射包括：

在相互垂直的兩個方向上對所述待測區(qū)域進(jìn)行掃描，測量一系列反射光譜；

比較所述一系列反射光譜的變化趨勢；

基于所述一系列反射光譜的變化趨勢，對所述第一入射光束的照射進(jìn)行校正。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述反射光譜表示：反射率、偏振態(tài)變化、傅立葉系數(shù)、瓊斯矩陣、或穆勒矩陣。

9.一種用于確定光斑位置的設(shè)備，包括：

第一測量裝置，用于測量針對照射在待測區(qū)域上的第一入射光束的第一反射光譜；

第二測量裝置，用于測量針對照射在所述待測區(qū)域上的第二入射光束的第二反射光譜，其中所述第一入射光束和所述第二入射光束的方位角相差180°；以及

第一確定裝置，用于如果所述第一反射光譜和所述第二反射光譜之間的差異小于預(yù)定閾值，則確定所述第一入射光束和所述第二入射光束在所述待測區(qū)域上的光斑中心處于所述待測區(qū)域的幾何中心。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，還包括：

第二確定裝置，用于在測量之前確定所述待測區(qū)域的幾何中心，以輔助所述第一入射光束的照射。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中所述第二確定裝置在放大的視場中選出所述幾何中心。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中所述第二確定裝置通過所述待測區(qū)域的各個頂點(diǎn)的坐標(biāo)來計算出所述幾何中心。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中所述第一反射光譜和所述第二反射光譜之間的差異包括：

所述第一反射光譜和所述第二反射光譜之間的均方根差或擬合優(yōu)度。

14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，還包括：

校正裝置，用于如果所述差異大于所述預(yù)定閾值，校正所述第一入射光束的照射。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中所述校正裝置包括：

掃描單元，用于在相互垂直的兩個方向上對所述待測區(qū)域進(jìn)行掃描，測量一系列反射光譜；

比較單元，用于比較所述一系列反射光譜的變化趨勢；

校正單元，用于基于所述一系列反射光譜的變化趨勢，對所述第一入射光束的照射進(jìn)行校正。