[發(fā)明專利]一種偏振光學(xué)相干層析與偏振多光子顯微的雙模成像系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610879481.7 | 申請(qǐng)日： | 2016-10-09 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN106383087B | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-04-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吳淑蓮;李暉;李志芳;何友武 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 福建師范大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G01N21/23 | 分類號(hào)： | G01N21/23;G01N21/01 |
| 代理公司： | 福州市博深專利事務(wù)所(普通合伙) 35214 | 代理人： | 林志崢 |
| 地址： | 350117 *** | 國(guó)省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 偏振 光學(xué) 相干 層析 光子 顯微 雙模 成像 系統(tǒng) | ||
【說(shuō)明書】：
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- 專利分類
G01 測(cè)量；測(cè)試
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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