[發明專利]一種光學測量裝置和方法

有效

• 申請號: 201610876766.5
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號: CN107883884B
• 公開（公告）日: 2019-10-25
• 發明（設計）人: 李煜芝;徐兵;楊志勇;周暢
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06;G01B11/00;G01B11/02
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種光學測量裝置，其特征在于，包括

一基板載臺，用于放置基板；

一光學檢測載臺框架，從所述基板載臺一側延伸至相對的一側，所述光學檢測載臺框架上承載有一光學檢測滑塊，可沿所述光學檢測載臺框架滑動；

一光學檢測單元，固定在所述光學檢測滑塊上，隨著所述光學檢測滑塊沿所述光學檢測載臺框架移動，所述光學檢測單元包括標記位置測量模塊；

一基板載臺位置測量模塊，用于測量所述基板載臺的位置；

一光學檢測單元位置測量模塊，用于測量所述光學檢測單元的位置；

以及校正模塊，根據所述基板載臺的位置和所述光學檢測單元的位置獲得所述基板載臺和所述光學檢測單元運動所引起的標記位置測量偏差，之后對所述標記位置測量模塊測得的標記位置進行校正；

所述基板載臺上還布設有帶校準標記的基準板，所述帶校準標記的基準板包括橫向基準板和與所述橫向基準板垂直的縱向基準板，所述橫向基準板沿所述基板載臺X向布置，用于校準所述光學檢測單元沿X向運動時所述基板相對所述光學檢測單元的Y向位置偏差，所述縱向基準板沿所述基板載臺Y向布置，用于校準所述基板載臺沿Y向運動時所述基板相對所述光學檢測單元的X向位置偏差。

2.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于，所述基板載臺位置測量模塊包括基板載臺Y向測量組件和基板載臺X向測量組件，所述基板載臺Y向測量組件測量所述基板載臺的Y向位移量，所述基板載臺X向測量組件測量所述基板載臺Y向運動中的X向偏移量。

3.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于，所述光學檢測單元位置測量模塊包括光學檢測單元X向測量組件、光學檢測滑塊X向測量組件以及光學檢測單元Y向測量組件，所述光學檢測單元X向測量組件測量所述光學檢測單元的X向位移量，所述光學檢測滑塊X向測量組件測量所述光學檢測滑塊的X向位移量，所述光學檢測單元Y向測量組件用于測量所述光學檢測單元X向運動中所述光學檢測單元相對于光學檢測載臺框架的Y向偏移量。

4.如權利要求2所述的光學測量裝置，其特征在于，所述基板載臺Y向測量組件和基板載臺X向測量組件均采用干涉儀。

5.如權利要求3所述的光學測量裝置，其特征在于，所述光學檢測單元X向測量組件和光學檢測滑塊X向測量組件采用干涉儀，所述光學檢測單元Y向測量組件采用激光位移傳感器。

6.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于，所述光學檢測單元還包括用于測調所述光學檢測單元與基板上表面距離的高度調整模塊。

7.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于，所述光學測量裝置還包括支撐底座，用于承載所述基板載臺和光學檢測載臺框架。

8.如權利要求7所述的光學測量裝置，其特征在于，所述支撐底座從下至上包括減震單元和大理石。

9.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于，所述光學檢測單元還用于檢測曝光后基板上的圖形線寬、套刻偏差、標記位置偏差和/或光刻膠膠厚。