[發(fā)明專利]一種用于環(huán)形部件加熱的加熱爐有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610868448.4 | 申請(qǐng)日: | 2016-09-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106282527B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-04-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬盛駿 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京金風(fēng)科創(chuàng)風(fēng)電設(shè)備有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C21D9/40 | 分類(lèi)號(hào): | C21D9/40 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227 | 代理人: | 羅滿 |
| 地址: | 100176 北京市大*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 環(huán)形 部件 加熱 加熱爐 | ||
1.一種用于環(huán)形部件加熱的加熱爐,包括爐體(1),所述爐體(1)圍成密閉加熱空間,所述爐體(1)內(nèi)安裝有熱媒驅(qū)動(dòng)部件和環(huán)形部件的支撐件(2),其特征在于,所述爐體(1)內(nèi)部還設(shè)有以下部件:
導(dǎo)流部件(4),包括頂板(41)和自所述頂板(41)周向豎直向下延伸的環(huán)形導(dǎo)流板(42),所述頂板(41)、所述環(huán)形導(dǎo)流板(42)分別與所述爐體(1)的相應(yīng)內(nèi)壁形成熱媒通道,所述頂板(41)與所述熱媒驅(qū)動(dòng)部件相對(duì)的位置設(shè)有回流通孔;所述環(huán)形導(dǎo)流板(42)套設(shè)于環(huán)形部件的外圍,并且具有若干徑向延伸的第一熱媒通道(4a),各所述第一熱媒通道(4a)正對(duì)所述環(huán)形部件的外周面;
中空柱體(5),設(shè)于環(huán)形部件的內(nèi)部,且二者周向具有預(yù)定間距,所述中空柱體(5)的上端面為封閉結(jié)構(gòu),環(huán)形部件內(nèi)周面下緣與所述中空柱體(5)的外周壁為封閉結(jié)構(gòu),并且所述中空柱體(5)的內(nèi)腔連通所述環(huán)形導(dǎo)流板(42)與所述爐體(1)的底壁形成的熱媒通道,所述中空柱體(5)設(shè)置有徑向延伸的第二熱媒通道(5a),所述第二熱媒通道(5a)與環(huán)形部件內(nèi)周面相對(duì)。
2.如權(quán)利要求1所述的加熱爐,其特征在于,所述支撐件(2)包括支架(21)和支撐平臺(tái)(22),所述支撐平臺(tái)(22)通過(guò)所述支架(21)支撐于所述爐體(1)的底壁,所述環(huán)形部件和所述中空柱體(5)均支撐于所述支撐平臺(tái)(22)的上表面,所述環(huán)形導(dǎo)流板(42)的下表面和所述中空柱體(5)的下表面均與所述支撐平臺(tái)(22)周向貼合密封;所述支撐平臺(tái)(22)與所述爐體(1)底壁之間形成的熱媒通道通過(guò)所述支撐平臺(tái)(22)的內(nèi)部連通所述中空柱體(5)的內(nèi)腔。
3.如權(quán)利要求2所述的加熱爐,其特征在于,所述支撐平臺(tái)(22)與所述中空柱體(5)內(nèi)腔相對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置有通孔,所述支撐平臺(tái)(22)與所述爐體(1)的底壁形成的熱媒通道通過(guò)所述支撐平臺(tái)(22)上的通孔連通所述中空柱體(5)的內(nèi)腔。
4.如權(quán)利要求2所述的加熱爐,其特征在于,自下而上,所述中空柱體(5)包括支撐段(51)、分流段(52)和頂段(53),所述第二熱媒通道(5a)至少開(kāi)設(shè)于所述分流段(52)的周壁;所述支撐段(51)的底部與所述支撐平臺(tái)(22)周向密封接觸,所述頂段(53)具有頂蓋(531),所述頂蓋(531)為封閉結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求4所述的加熱爐,其特征在于,所述支撐段(51)包括環(huán)形基座,所述環(huán)形基座的外緣周向均勻設(shè)置有水平支腳(511),所述環(huán)形部件支撐于所述水平支腳(511),并且所述水平支腳(511)上表面設(shè)置有與所述環(huán)形部件配合定位的定位部件。
6.如權(quán)利要求5所述的加熱爐,其特征在于,所述定位部件為止口(512),當(dāng)所述環(huán)形部件安裝于所述水平支腳(511)上時(shí),所述環(huán)形部件的內(nèi)周面抵靠至少一個(gè)所述止口(512)的外壁。
7.如權(quán)利要求6所述的加熱爐,其特征在于,沿徑向,所述止口(512)相對(duì)所述水平支腳(511)位置可調(diào)。
8.如權(quán)利要求5所述的加熱爐,其特征在于,所述環(huán)形基座內(nèi)部還均設(shè)有提取座(513),所述提取座(513)上設(shè)置有螺紋孔或螺紋柱,所述提取座(513)通過(guò)支架(514)連接所述環(huán)形基座內(nèi)表面。
9.如權(quán)利要求5所述的加熱爐,其特征在于,自上而下,所述環(huán)形基座的內(nèi)孔包括大徑段(515)和小徑段(516),所述大徑段(515)和所述小徑段(516)通過(guò)臺(tái)階面(51a)連接,所述分流段(52)的下端部為配合段,所述配合段的外徑大于所述小徑段(516)內(nèi)徑,并且小于所述大徑段(515)的內(nèi)徑,組裝時(shí)所述配合段套裝于所述大徑段(515)內(nèi)部并且支撐于所述臺(tái)階面(51a)上。
10.如權(quán)利要求4所述的加熱爐,其特征在于,所述分流段(52)在各第二熱媒通道(5a)進(jìn)口和出口位置周?chē)O(shè)置有徑向延伸的整流片,相應(yīng)所述整流片周向分別圍成內(nèi)部整流通道和外部整流通道,所述中空柱體(5)內(nèi)部的熱媒介質(zhì)依次經(jīng)內(nèi)部整流通道、相應(yīng)所述第二熱媒通道(5a)和外部整流通道噴射至所述環(huán)形部件的內(nèi)周面。
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