[發明專利]一種線型蒸發源的蒸鍍方法及蒸鍍設備

在審

• 申請號: 201610854758.0
• 申請日: 2016-09-27
• 公開（公告）號: CN107868939A
• 公開（公告）日: 2018-04-03
• 發明（設計）人: 裴泳鎮;李浩永;金熏;金甲錫
• 申請（專利權）人: 合肥欣奕華智能機器有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291
• 代理人: 黃志華

1.一種線型蒸發源的蒸鍍方法，其特征在于，包括：

控制包括至少一個線型蒸發源的蒸發部沿著平行于各框架短邊的方向掃描，同時控制至少一個所述線型蒸發源對內部蒸鍍材料進行蒸發；

所述待蒸鍍基板固定于所述框架上，且所述線型蒸發源的長度大于或等于所述待蒸鍍基板長邊的長度。

2.如權利要求1所述的蒸鍍方法，其特征在于，控制所述蒸發部沿著平行于各框架短邊的方向掃描，具體包括：

控制所述蒸發部沿著平行于各框架短邊的方向對每一個所述待蒸鍍基板進行往返掃描。

3.如權利要求2所述的蒸鍍方法，其特征在于，在所述蒸發部單向掃描之后，且在進行反方向掃描之前，還包括：

檢測所述線型蒸發源的蒸發率；

根據檢測到的蒸發率對各所述線型蒸發源的蒸發率進行調整，以使各所述線型蒸發源保持均勻的蒸發率。

4.如權利要求1-3任一項所述的蒸鍍方法，其特征在于，在控制所述蒸發部沿著平行于各框架短邊的方向掃描之前，還包括：

檢測所述線型蒸發源的蒸發率；

根據檢測到的蒸發率對各所述線型蒸發源的蒸發率進行調整，以使各所述線型蒸發源保持均勻的蒸發率。

5.一種線型蒸發源的蒸鍍設備，其特征在于，包括：蒸發室，設置在所述蒸發室內部的用于固定待蒸鍍基板的多個框架以及蒸發部；其中，

各所述框架在與所述框架短邊平行的方向上并排設置；

所述蒸發部包括至少一個線型蒸發源，所述線型蒸發源的長度大于或等于所述待蒸鍍基板長邊的長度，且各所述線型蒸發源在垂直于所述線型蒸發源的延伸方向上并排設置；

所述蒸發部蒸鍍的掃描方向僅沿著所述框架短邊平行的方向。

6.如權利要求5所述的蒸鍍設備，其特征在于，還包括：用于檢測所述線型蒸發源的蒸發率的至少一個石英晶體微天平。

7.如權利要求6所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述石英晶體微天平固定在所述線型蒸發源的至少一個短邊處，或，所述石英晶體微天平固定在相鄰兩個所述框架之間與所述線型蒸發源的至少一個短邊對應的位置處。

8.如權利要求6所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述石英晶體微天平為線型石英晶體微天平；

所述線型石英晶體微天平固定在所述線型蒸發源的至少一個長邊處，或，各所述線型石英晶體微天平固定在所述蒸發室的內壁與所述線型蒸發源的至少一個長邊對應的位置處。

9.如權利要求5所述的蒸鍍設備，其特征在于，還包括：用于控制所述蒸發部的蒸鍍區域的調節部件；

所述調節部件包括：固定于所述線型蒸發源的兩個短邊處的第一調節板，和/或，固定于所述蒸發部的兩個長邊外側邊緣處的第二調節板；

所述調節部件還包括：用于控制所述第一調節板和所述第二調節板的傾斜角度的控制部；所述傾斜角度為所述第一調節板或所述第二調節板與所述蒸發部表面的夾角。

10.如權利要求5-9任一項所述的蒸鍍設備，其特征在于，還包括：與所述蒸發部固定連接的距離控制部；

所述距離控制部，用于控制所述蒸發部與所述框架所在平面之間的距離。