[發明專利]研磨墊、研磨裝置及制造研磨墊的方法

在審

• 申請號: 201610848478.9
• 申請日: 2016-09-26
• 公開（公告）號: CN107866732A
• 公開（公告）日: 2018-04-03
• 發明（設計）人: 馮崇智;姚伊蓬;洪永璋;宋品賢;陳晉緯;吳文杰
• 申請（專利權）人: 三芳化學工業股份有限公司
• 主分類號: B24B37/26
• 分類號: B24B37/26;B24B37/22;B24B37/24;B24B37/04;B24D11/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 秦劍

1.一種研磨墊，其包含：

研磨層，該研磨層包含

高分子彈性主體；及

復數個二氧化鈦納米線，各二氧化鈦納米線間彼此獨立且均勻任意分散于該高分子彈性主體內。

2.根據權利要求1的研磨墊，其中該研磨層還包含復數個孔洞分散于該高分子彈性主體內。

3.根據權利要求1的研磨墊，其中該研磨層還包含無紡布。

4.根據權利要求1的研磨墊，其中該二氧化鈦納米線的長度為約0.1nm至約100nm。

5.根據權利要求1的研磨墊，其中該二氧化鈦納米線的直徑為約0.1nm至約50nm。

6.根據權利要求1的研磨墊，其中該二氧化鈦納米線于該研磨層中的比例為0.1％至20％以重量計。

7.根據權利要求1的研磨墊，其中部分該二氧化鈦納米線顯露于該研磨層的一表面。

8.根據權利要求2的研磨墊，其中部分該二氧化鈦納米線位于這些孔洞內。

9.一種研磨裝置，其包含：

研磨盤；

基材；

根據權利要求1至8任何一項的研磨墊，其粘附于該研磨盤上，并用以研磨該基材；及

研磨漿液，其接觸該基材，以進行研磨。

10.一種制造根據權利要求1至8任何一項研磨墊的方法，其包含：

(a)提供高分子彈性體組合物；

(b)提供復數個二氧化鈦納米線；

(c)將步驟(b)中這些二氧化鈦納米線均勻任意分散于步驟(a)中的該高分子彈性體組合物中；及

(d)固化該高分子彈性體組合物以形成該高分子彈性主體以提供該研磨層。

11.根據權利要求10的方法，其中步驟(d)前還包含將步驟(c)的任意分散有這些二氧化鈦納米線的該高分子彈性體組合物涂布于載體的步驟，其中該載體為離型材料。

12.根據權利要求10的方法，其中步驟(d)前還包含將步驟(c)的任意分散有這些二氧化鈦納米線的該高分子彈性體組合物充滿模具的模穴的步驟。

13.根據權利要求10的方法，其中步驟(d)前還包含將步驟(c)的任意分散有這些二氧化鈦納米線的該高分子彈性體材料含浸無紡布的步驟。