[發明專利]激光加工系統

有效

• 申請號: 201610827133.5
• 申請日: 2016-09-14
• 公開（公告）號: CN107030376B
• 公開（公告）日: 2019-12-17
• 發明（設計）人: 和泉貴士
• 申請（專利權）人: 發那科株式會社
• 主分類號: B23K26/00
• 分類號: B23K26/00;B23K26/14;B23K26/70
• 代理公司: 11277 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 劉新宇

提供一種激光加工系統。該激光加工系統具備：激光振蕩器；激光光路，其將激光從激光振蕩器的激光射出口引導至工件；雜質氣體吸附劑，其吸附對激光的傳播產生影響的雜質氣體；以及開閉門，其將雜質氣體吸附劑曝露在激光光路內。

技術領域

本發明涉及一種具備將從激光振蕩器射出的激光引導至被加工物的激光光路的激光加工系統。

背景技術

當使激光散射或吸收激光那樣的雜質氣體存在于激光振蕩器的周邊時，對激光的傳播產生大的影響。因此，在搭載有激光振蕩器的以往的激光加工系統中，設置有具有將激光從激光振蕩器的光射出口引導至加工點的光學系統的激光光路。而且，通過使這種激光光路內充滿不會對激光的傳播造成影響的純凈的吹掃氣體，來使激光加工穩定。

并且，日本專利第4335154號公報公開了以下發明：在上述的以往的激光加工系統中，在激光光路內設置探測雜質氣體的氣體傳感器，來判定在激光光路內是否混入了雜質氣體。

而且，在日本專利第4335154號公報所公開的發明中，在如前所述的雜質氣體混入到激光光路內的情況下，使以氮為主要成分的富氮氣體、氮氣等純凈的吹掃氣體流入到激光光路內并從激光光路內排出。另外，在日本專利第4335154號公報中，作為如前所述的雜質氣體，公開了二氧化碳、乙醇或氨等有機溶劑類的氣體。

然而，根據專利第4335154號公報所公開的發明，利用吹掃氣體來使乙醇等有機溶劑類的雜質氣體的濃度下降到能夠進行激光加工的濃度所需要的時間比雜質氣體為二氧化碳的情況下的該時間長。推測其原因是由于前述的有機溶劑類的雜質氣體與激光光路內的壁面發生偽化學鍵合。換言之，日本專利第4335154號公報所公開的發明存在如下問題：在激光光路內混入了乙醇等有機溶劑類的雜質氣體的情況下，難以盡快地將該雜質氣體從激光光路排出。

發明內容

本發明提供一種在激光光路內混入了對激光的傳播產生影響的氣體的情況下能夠盡快地將該氣體從激光光路排出的激光加工系統。

根據本發明的第一方式，提供一種激光加工系統，其具備：

激光振蕩器，其振蕩出激光；

激光光路，其將激光從激光振蕩器引導至被加工物；

雜質氣體吸附劑，其吸附對激光的傳播產生影響的雜質氣體；以及

曝露功能部，其將雜質氣體吸附劑曝露在激光光路內。

根據本發明的第二方式，提供一種第一方式的激光加工系統，其中，

該激光加工系統還具備吹掃氣體供給線，該吹掃氣體供給線用于向激光光路內供給吹掃氣體。

根據本發明的第三方式，提供一種第一方式或第二方式的激光加工系統，其中，

該激光加工系統還具備雜質氣體混入探測裝置，該雜質氣體混入探測裝置探測激光光路內是否混入了雜質氣體。

根據本發明的第四方式，提供一種第三方式的激光加工系統，其中，

在由雜質氣體混入探測裝置探測到激光光路內混入了雜質氣體時，由曝露功能部將雜質氣體吸附劑曝露在激光光路內。

根據本發明的第五方式，提供一種第三方式或第四方式的激光加工系統，其中，

雜質氣體混入探測裝置具有探測雜質氣體的至少一個氣體傳感器。

根據本發明的第六方式，提供一種第三方式或第四方式的激光加工系統，其中，

雜質氣體混入探測裝置具有麥克風，該麥克風收集激光在激光光路內傳播時的聲音來探測激光光路內是否混入了雜質氣體。

根據本發明的第七方式，提供一種第三方式或第四方式的激光加工系統，其中，