[發(fā)明專利]真空負(fù)壓納米壓印方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610790060.7 | 申請(qǐng)日： | 2016-08-31 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN106200262A | 公開（公告）日： | 2016-12-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 冀然 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 蘇州天仁微納智能科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/00 | 分類號(hào)： | G03F7/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京航信高科知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11526 | 代理人： | 周良玉 |
| 地址： | 215500 江蘇省蘇州市常熟市*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 真空 納米 壓印 方法 | ||
【說明書】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾愃朴∷⒛５闹谱?，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
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G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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