[發(fā)明專利]基于低輻射高效負(fù)離子材料的涂料式應(yīng)用及其制備工藝

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610786329.4
• 申請(qǐng)日: 2016-08-30
• 公開（公告）號(hào): CN108300055A
• 公開（公告）日: 2018-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅靜林;郭少峰;樊秀娟;謝秋菊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海雁陣生物科技發(fā)展有限公司
• 主分類號(hào): C09D133/04
• 分類號(hào): C09D133/04;C09D7/61;C09D5/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于低輻射高效負(fù)離子材料的涂料式應(yīng)用，其特征在于，所述低輻射高效負(fù)離子材料包括納米級(jí)醫(yī)王石負(fù)離子粉體，所述涂料的原料重量份配比為：

納米級(jí)醫(yī)王石負(fù)離子粉體0.3-0.8份；鈦白粉15～20份；顏填料20～30份；丙二醇1.5～2份；潤(rùn)濕分散劑1.0～1.5份；消泡劑0.3～0.5份；干膜防霉劑0.1～0.2份；AMP95 0.05～0.1份；純丙乳液25～40份；成膜助劑0.5～1.0份；增稠流平劑1.0～1.5份；疏水劑2.0～3.0份；去離子水20份。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于低輻射高效負(fù)離子材料的涂料式應(yīng)用，其特征在于，所述低輻射高效負(fù)離子材料包括納米級(jí)醫(yī)王石負(fù)離子粉體，所述涂料的原料重量份配比為：

納米級(jí)醫(yī)王石負(fù)離子粉體0.3-0.5份；鈦白粉15～17份；顏填料20～25份；丙二醇1.5～2份；潤(rùn)濕分散劑1.0～1.5份；消泡劑0.3～0.5份；干膜防霉劑0.1～0.2份；AMP95 0.05～0.07份；純丙乳液25～35份；成膜助劑0.5～1.0份；增稠流平劑1.0～1.5份；疏水劑2.0～3.0份；去離子水20份。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于低輻射高效負(fù)離子材料的涂料式應(yīng)用，其特征在于，所述低輻射高效負(fù)離子材料包括納米級(jí)醫(yī)王石負(fù)離子粉體，所述涂料的原料重量份配比為：

納米級(jí)醫(yī)王石負(fù)離子粉體0.5-0.8份；鈦白粉18～20份；顏填料20～30份；丙二醇1.8～2份；潤(rùn)濕分散劑1.0～1.4份；消泡劑0.3～0.4份；干膜防霉劑0.1～0.18份；AMP95 0.05～0.1份；純丙乳液30～40份；成膜助劑0.7～1.0份；增稠流平劑1.0～1.3份；疏水劑2.5～3.0份；去離子水20份。

4.一種基于權(quán)利要求1～3所述的低輻射高效負(fù)離子材料的涂料制備工藝，采用上述的原料重量份配比，其特征在于，所述制備工藝包括：

步驟S1、提供一醫(yī)王石，并依次通過高速分散、砂磨、調(diào)漆、過濾和灌裝步驟將所述醫(yī)王石制備形成納米級(jí)醫(yī)王石負(fù)離子粉；

步驟S2、于涂料生產(chǎn)反應(yīng)釜中依次加入去離子水、消泡劑、潤(rùn)濕分散劑、干膜防霉劑、AMP95；

步驟S3、繼續(xù)加入所述納米級(jí)醫(yī)王石負(fù)離子粉以及顏填料，并混合均勻；

步驟S4、繼續(xù)加入鈦白粉、丙二醇、純丙乳液、成膜助劑、增稠流平劑、疏水劑進(jìn)行噶排毒分散磨砂，之后，低速攪拌均勻；

步驟S5、進(jìn)行萃取分離步驟。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備工藝，其特征在于，步驟S3中，控制溫度為70℃，反應(yīng)時(shí)間6小時(shí)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備工藝，其特征在于，步驟S4中，控制溫度為70℃，反應(yīng)時(shí)間為3小時(shí)。