[發(fā)明專利]一種新型潤滑粉粉碎組件

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610777997.0
• 申請日: 2016-08-31
• 公開（公告）號: CN107790222A
• 公開（公告）日: 2018-03-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李國英;楊士娟
• 申請（專利權(quán)）人: 天津市弘亞潤滑粉制造有限公司
• 主分類號: B02C7/08
• 分類號: B02C7/08;B02C7/12;B02C7/11
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及潤滑粉的制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種新型潤滑粉粉碎組件。

背景技術(shù)

生產(chǎn)鋼絲或焊絲等線材中需要進(jìn)行拉拔工序，拉拔過程中，模具內(nèi)壁與線材表面會產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦和大量熱量，為提高拉拔后鋼絲的表面質(zhì)量，拉拔過程需用潤滑粉對線材表面涂抹，使其在模具內(nèi)壁與線材表面之間起到潤滑、降溫作用。常見的潤滑粉的生產(chǎn)過程中，使用攪拌軸上的攪拌葉對較大顆粒的潤滑粉原料進(jìn)行粉碎，之后粉碎后的不同原料進(jìn)行混合形成復(fù)合潤滑粉。但攪拌軸這種粉碎方式生成的潤滑粉顆粒不均勻，影響潤滑粉與線材之間的結(jié)合力，影響潤滑粉的性能。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的問題是現(xiàn)有的攪拌軸這種粉碎方式生成的潤滑粉顆粒不均勻，影響潤滑粉的性能。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：提供一種新型潤滑粉粉碎組件。所述新型潤滑粉粉碎組件，包括固定盤和位于固定盤下方的研磨盤；所述固定盤上設(shè)有進(jìn)料口，所述進(jìn)料口自固定盤的上表面延伸至固定盤的下表面；所述研磨盤的下方固定設(shè)有一旋轉(zhuǎn)軸，所述旋轉(zhuǎn)軸帶動研磨盤繞固定盤的軸向旋轉(zhuǎn)。

優(yōu)選地，所述研磨盤的上表面為內(nèi)凹形，其邊緣高于中心；所述固定盤的下表面為與研磨盤相配合的下凸形。

優(yōu)選地，所述研磨盤的上表面的中心區(qū)域設(shè)有定位柱，固定盤的下表面上設(shè)有與定位柱相配合的定位槽。

進(jìn)一步地，所述研磨盤的上表面上設(shè)有若干沿研磨盤的中心均勻分布的弧形凸緣，所述凸緣自定位柱延伸至研磨盤的邊緣。

進(jìn)一步地，還包括套裝在研磨盤外的防護(hù)套，所述防護(hù)套的上邊緣高于研磨盤的上邊緣，防護(hù)套的下端與研磨盤之間設(shè)有過濾網(wǎng)。

優(yōu)選地，所述旋轉(zhuǎn)軸的外側(cè)設(shè)有隔離套，所述隔離套與研磨盤的下表面固定連接。

優(yōu)選地，所述進(jìn)料口為螺旋狀，所述進(jìn)料口至少為一個(gè)。

本發(fā)明具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是：

1.本發(fā)明提供的潤滑粉的粉碎組件，結(jié)構(gòu)簡單，配置方便，通過研磨盤的轉(zhuǎn)動在研磨盤與固定盤之間粉碎潤滑粉，粉碎后的潤滑粉粒徑均勻，有效提高了潤滑粉的潤滑性能。

2.本發(fā)明中，研磨盤的上表面采用內(nèi)凹性，使其上的潤滑粉原料更充分地受到研磨。同時(shí)，在研磨盤的上表面上還設(shè)有凸緣，可根據(jù)需求設(shè)置不同規(guī)格的凸緣，提高了研磨效率。

3.本發(fā)明中還設(shè)有防護(hù)套和濾網(wǎng)，防止粉碎過程中粉塵的四散，同時(shí)，初步過濾潤滑粉，減輕了后續(xù)工序的繁瑣程度。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明的分解示意圖。

圖3是本發(fā)明中研磨盤的俯視示意圖。

圖中：1-固定盤，101-進(jìn)料口，102-固定軸，103-輔助架，104-定位槽，2-研磨盤，201-旋轉(zhuǎn)軸，202-隔離套，203-定位柱，204-凸緣，3-防護(hù)套，301-濾網(wǎng)。

具體實(shí)施方式

為了更好的理解本發(fā)明，下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的描述。

如圖1-圖3所示，一種新型潤滑粉粉碎組件，包括固定盤1、研磨盤2和防護(hù)套3。

固定盤1上設(shè)有進(jìn)料口101。進(jìn)料口101至少為一個(gè)，其自固定盤101的上表面螺旋延伸至固定盤101的下表面。固定盤1的上表面上設(shè)有與支架連接的固定軸102，固定盤的側(cè)面上對稱設(shè)有輔助架103，進(jìn)一步穩(wěn)固固定盤。

研磨盤2設(shè)置在固定盤1的下方。研磨盤2的上表面為內(nèi)凹形，其邊緣高于中心，固定盤1的下表面為與研磨盤1相配合的下凸形。研磨盤2的上表面的中心區(qū)域設(shè)有定位柱203，固定盤1的下表面上設(shè)有與定位柱203相配合的定位槽104。定位槽104略大于定位柱203，定位柱203可在定位槽104內(nèi)自由旋轉(zhuǎn)。研磨盤2的上表面上設(shè)有若干沿研磨盤2的中心均勻分布的弧形凸緣204，凸緣204自定位柱203延伸至研磨盤2的邊緣，進(jìn)一步增大研磨盤2與固定盤1之間摩擦力，可設(shè)置不同尺寸的凸緣204滿足不同潤滑粉的粒徑需求。研磨盤2的下方固定設(shè)有一旋轉(zhuǎn)軸201，旋轉(zhuǎn)軸201帶動研磨盤2繞固定盤1的軸向旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)軸201的外側(cè)設(shè)有隔離套202，隔離套202與研磨盤2的下表面固定連接。

防護(hù)套3套裝在研磨盤2外的，防護(hù)套3的上邊緣高于研磨盤2的上邊緣，防止粉碎過程中粉末的飛濺。防護(hù)套3的下端與研磨盤2之間設(shè)有過濾網(wǎng)301。

以上對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本發(fā)明的實(shí)施范圍。凡依本發(fā)明范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本專利涵蓋范圍之內(nèi)。