[發明專利]一種電子材料清洗劑

在審

• 申請號: 201610742215.X
• 申請日: 2016-08-26
• 公開（公告）號: CN107779284A
• 公開（公告）日: 2018-03-09
• 發明（設計）人: 冒新宇
• 申請（專利權）人: 江蘇新核力機電有限公司
• 主分類號: C11D1/825
• 分類號: C11D1/825;C11D3/18;C11D3/20;C11D3/33;C11D3/38;C11D3/386;C11D3/60
• 代理公司: 北京華仲龍騰專利代理事務所(普通合伙)11548
• 代理人: 李靜

技術領域

本發明涉及了一種清洗劑，具體涉及用于電子材料的清洗劑。

背景技術

隨著科學技術的進步,微電子行業取得了迅速的發展,集成電路是信息產業群的核心和基礎。建立在集成電路技術進步基礎上的全球信息化、網絡化和知識經濟浪潮，使集成電路產業的戰略地位越來越重要，對國民經濟、國防建設和人民生活的影響也越來越大。因此，發展我國集成電路產業是推動國民經濟信息化的重要保證，是信息產業發展的重中之重。集成電路市場的巨大發展必然驅動作為集成電路生產過程中必不可少的易耗材料市場的蓬勃發展，作為微電子產品加工過程中重要消耗材料之一的清洗劑，有著巨大的市場。

傳統的清洗劑對ULSI襯底、電子玻璃及LCD屏等表面上的金屬離子、有機、無機雜質和固體粒子清洗，不僅破壞臭氧層物質，如三氟三氯乙烷(CFC-113)和1,1,1-三氯乙烷等，而且對操作者健康產生一定的危害，其清洗劑中的微粒化的顆粒會附著于清洗對象會影響其使用性能，并且會對清洗對象造成一定程度的腐蝕。

本發明公開了一種電子材料清洗劑，其特征是：由下述重量份混合而成：APG-烷基多苷6～7％，防銹劑0.2～0.4％，三氯乙烯8～9％、羥基羧酸1.1～1.2％、十二碳二元羧酸0.8～0.9％，異構醇聚氧乙烯醚2～4％，氮川三乙酸0.5～0.8％，脂肪酶0.05～0.0％，余量為水。

發明內容

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：一種電子材料清洗劑，其特征是：由下述重量份混合而成：APG-烷基多苷6～7％，防銹劑0.2～0.4％，三氯乙烯8～9％、羥基羧酸1.1～1.2％、十二碳二元羧酸0.8～0.9％，異構醇聚氧乙烯醚2～4％，氮川三乙酸0.5～0.8％，脂肪酶0.05～0.0％，余量為水。

本發明的有益效果是：本發明制備的清洗劑不僅對操作者無害，而且其清洗劑不會出現微粒化顆粒附著于清洗對象上，不會造成清洗后其性能下降，而且其對清洗物的防腐蝕性能大大增加，清洗效果顯著，經久耐用，是一種價格合理且性價比高的環保型清洗劑。

具體實施方式

具體實施例：一種電子材料清洗劑，其特征是：由下述重量份混合而成：APG-烷基多苷6～7％，防銹劑0.2～0.4％，三氯乙烯8～9％、羥基羧酸1.1～1.2％、十二碳二元羧酸0.8～0.9％，異構醇聚氧乙烯醚2～4％，氮川三乙酸0.5～0.8％，脂肪酶0.05～0.0％，余量為水。

本發明的有益效果是：本發明制備的清洗劑不僅對操作者無害，而且其清洗劑不會出現微粒化顆粒附著于清洗對象上，不會造成清洗后其性能下降，而且其對清洗物的防腐蝕性能大大增加，清洗效果顯著，經久耐用，是一種價格合理且性價比高的環保型清洗劑。

顯然，上述實施例僅僅是為清楚地說明所作的舉例，而并非對實施方式的限定。對于所屬領域的普通技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見的變化或變動仍處于本發明創造的保護范圍之中。