[發明專利]鈣鈦礦薄膜的低壓化學沉積的設備及其使用方法和應用

在審

• 申請號: 201610722840.8
• 申請日: 2016-08-25
• 公開（公告）號: CN107785488A
• 公開（公告）日: 2018-03-09
• 發明（設計）人: 姚冀眾;顏步一
• 申請（專利權）人: 杭州纖納光電科技有限公司
• 主分類號: H01L51/48
• 分類號: H01L51/48;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458
• 代理公司: 浙江一墨律師事務所33252
• 代理人: 陳紅珊

1. 一種鈣鈦礦薄膜的低壓化學沉積的設備，包括主腔體（26），其特征在于，在所述主腔體（26）內分別設置有兩個前驅物加熱臺（9）和（13）以及基底固定槽（10），所述兩個前驅物加熱臺（9）和（13）分別靠近主腔體（26）的左右兩端部，所述基底固定槽（10）設置在兩個前驅物加熱臺（9）和（13）之間，在所述前驅物加熱臺（9）和（13）上分別設置有前驅物儲存盒（8）和（12），在所述基底固定槽（10）上放置有若干組待沉積薄膜的基底（11），每組基底（11）背靠背緊貼地放置有兩片基底（11），所述兩片基底（11）的待沉積薄膜的表面各自朝向主腔體（26）的一端；在所述主腔體（26）的左右兩端分別連通帶有載氣進氣控制閥（1）和 （22）的載氣管道，在所述主腔體（26）上還連通有抽真空裝置，在所述主腔體（26）上還設置有給基底（11）加熱的主腔體加熱裝置；在兩端的載氣管道上分別連通有溶劑蒸發裝置。

2.如權利要求1所述的鈣鈦礦薄膜的低壓化學沉積的設備，其特征在于，在所述主腔體（26）內還設置有分流隔板（27）和（28），所述分流隔板（27）和（28）分別設置在前驅物儲存盒（8）和（12）與主腔體（26）兩端部的載氣管道口之間，所述分流隔板（27）和（28）分別通過分流隔板固定槽（29）和（30）可拆卸地設置在主腔體（26）的內壁上。

3.如權利要求1或2所述的鈣鈦礦薄膜的低壓化學沉積的設備，其特征在于，所述抽真空裝置包括真空泵（15）和真空控制閥（14），所述抽真空裝置通過真空管路與主腔體（26）相連通，所述真空泵（15）和真空控制閥（14）依次設置在真空管路上，所述真空控制閥（14）更靠近主腔體（26）。

4.如權利要求1或2所述的鈣鈦礦薄膜的低壓化學沉積的設備，其特征在于，所述溶劑蒸發裝置通過溶劑管路與載氣管道相連通，所述溶劑蒸發裝置包括溶劑容器（6）和（17）、溶劑加熱臺（5）和（18）以及溶劑蒸汽控制閥（7）和（16），所述溶劑加熱臺（5）和（18）分別給溶劑容器（6）和（17）加熱，溶劑的蒸汽分別通過溶劑蒸汽控制閥（7）和（16）和溶劑管路進入載氣管道。

5.如權利要求1或2所述的鈣鈦礦薄膜的低壓化學沉積的設備，其特征在于，在所述載氣管道上還分別連通有預留功能氣裝置，所述預留功能氣裝置包括預留功能氣管路和預留功能氣進氣閥（3）和（20）。

6. 如權利要求1或2所述的鈣鈦礦薄膜的低壓化學沉積的設備，其特征在于，所述的鈣鈦礦半導體材料為ABX₃ 結構，其中A為胺基、脒基或者堿族中的至少一種，B為鉛、錫、鎢、銅、鋅、鎵、鍺、砷、硒、銠、鈀、銀、鎘、銦、銻、鋨、銥、鉑、金、汞、鉈、鉍、釙中至少一種的陽離子，X為碘、溴、氯、砹中的至少一種的陰離子；所述退火腔載物臺中的溶劑可為酰胺類溶劑、砜類/亞砜類溶劑、酯類溶劑、烴類、鹵代烴類溶劑、醇類溶劑、酮類溶劑、醚類溶劑、芳香烴溶劑中的任意一種。