[發明專利]一種超低分子量插層抑制劑及其制備方法有效
| 申請號: | 201610644344.5 | 申請日: | 2016-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN106281263B | 公開(公告)日: | 2018-11-09 |
| 發明(設計)人: | 謝剛;羅平亞;鄧明毅 | 申請(專利權)人: | 西南石油大學 |
| 主分類號: | C09K8/035 | 分類號: | C09K8/035 |
| 代理公司: | 成都正華專利代理事務所(普通合伙) 51229 | 代理人: | 李林合;李蕊 |
| 地址: | 610500 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 乙胺 超低分子量 二乙烯三胺 合成 三乙胺 乙二胺 抑制劑 插層 制備 二乙烯三胺五乙酸 氨水 乙二胺四乙酸 超深井鉆井 鉆井液體系 氨三乙酸 合成工藝 無水乙醇 頁巖水化 抑制性能 有機溶劑 蒸餾 濃硫酸 產率 井壁 耐溫 生產成本 配制 清水 環保 | ||
1.一種超低分子量插層抑制劑,其特征在于,由氨三乙胺、乙二胺四乙胺、二乙烯三胺五乙胺中的任意一種或幾種混合成0.5~3%重量比,其余為水;
所述氨三乙胺的結構式為:
所述乙二胺四乙胺的結構式為:
所述二乙烯三胺五乙胺的結構式為:
2.根據權利要求1所述的一種超低分子量插層抑制劑,其特征在于,所述氨三乙胺由氨三乙酸合成,氨三乙酸的結構式為:
所述乙二胺四乙胺由乙二胺四乙酸合成,乙二胺四乙酸的結構式為:
所述二乙烯三胺五乙胺由二乙烯三胺五乙酸合成,二乙烯三胺五乙酸的結構式為:
3.根據權利要求1~2中任意一項所述的超低分子量插層抑制劑的制備方法,其特征在于,步驟如下:
S1、將0.1~0.2mol的原料加入到500ml的單口燒瓶中,加入250ml無水乙醇中,加入5~10ml濃硫酸,在75~90℃反應3~5h,得到產品;
S2、將步驟S1得到的產品冷卻到室溫后,減壓濃縮,加入100ml二氯甲烷,在0~5℃條件下滴加10%的氫氧化鈉溶液,直到pH試紙呈堿性后,分離有機層,無水硫酸鎂干燥,過濾,蒸餾,得到帶羧酸乙酯官能團的產品;
S3、步驟S2中得到的帶羧酸乙酯官能團的產品,取0.05~0.1mol溶解在50ml有機溶劑中,加入5~10當量的氨甲醇溶液,再加入1~10%甲醇鈉,在50℃水浴條件下劇烈攪拌24h,減壓蒸餾除掉溶劑,得到產品;
S4、將步驟S3中得到的0.05~0.1mol產品溶解在有機溶劑中,在5~10℃條件下,加入0.05~0.2mol硼氫化鈉,滴加0.1~0.3mol三氟化硼乙醚,升溫至室溫反應12h;反應完畢后,緩慢滴加水進行淬滅,然后蒸發干燥,滴加0.1~0.3mol三氟化硼乙醚,或者加入0.1~0.3mol氫化鋁鋰,滴畢后回流反應1h,蒸發干燥,將殘余固體溶解在水中,加入5mol/L的氫氧化鈉溶液,攪拌30min,蒸發干燥,將干燥固體溶解在無水乙醚中,然后過濾,旋轉蒸發掉乙醚,得到產品;
S5、將步驟S4所得的產品按照所需比例加入反應釜,加入清水后攪拌,配置成超低分子量插層抑制劑。
4.根據權利要求3所述的一種超低分子量插層抑制劑的制備方法,其特征在于,步驟S1中所述的原料為氨三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸中的一種。
5.根據權利要求3所述的一種超低分子量插層抑制劑的制備方法,其特征在于,步驟S3中所述的有機溶劑為四氫呋喃,吡啶,N,N-二甲基甲酰胺,N,N-二甲基乙酰胺,二甲亞砜中的一種。
6.根據權利要求3所述的一種超低分子量插層抑制劑的制備方法,其特征在于,步驟S3中加入的氨甲醇溶液的步驟,可替換為通入氨氣或加入氨水。
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