[發明專利]尾氣過濾裝置及單晶爐真空系統在審
| 申請號: | 201610629326.X | 申請日: | 2016-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN107684795A | 公開(公告)日: | 2018-02-13 |
| 發明(設計)人: | 周銳;文勇;張永輝;付澤華;王寧軍;王林 | 申請(專利權)人: | 隆基綠能科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D50/00 | 分類號: | B01D50/00;C30B15/00 |
| 代理公司: | 西安弘理專利事務所61214 | 代理人: | 燕肇琪 |
| 地址: | 710100 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 尾氣 過濾 裝置 單晶爐 真空 系統 | ||
技術領域
本發明屬于單晶制造設備技術領域,具體涉及一種尾氣過濾裝置,還涉及一種具有該尾氣過濾裝置的單晶爐真空系統。
背景技術
直拉法是一種常見的單晶生長方法,其生長過程是在單晶爐中,將籽晶浸入熔體,依次實施引晶、放肩、轉肩、等徑及收尾過程,最后獲得單晶棒。在拉晶的同時,往爐內引入保護氣體、并設置真空泵進行抽吸,利用保護氣體對晶體生長環境的吹掃作用,帶走揮發物及氧化物等雜質,確保拉晶過程穩定及成品品質。攜帶雜質的保護氣體,即為拉晶尾氣,一般先經過濾裝置再進入真空泵,如此,能緩解雜質的進入對泵油粘稠度乃至真空泵效率的影響。然而,現有的過濾裝置僅利用單層濾網對拉晶尾氣中的雜質進行攔截,過濾能力有限。為了維持爐壓、確保拉晶過程穩定,仍需頻繁地更換泵油,難以適應單爐長時間運行的拉晶工藝需求。
發明內容
本發明的目的在于提供一種尾氣過濾裝置,解決了由于現有的過濾裝置效果差導致單晶爐真空泵需要頻繁更換泵油、難適應單爐長時間運行的拉晶工藝需求的問題。
本發明的目的還在于提供一種具有該尾氣過濾裝置的單晶爐真空系統,解決了現有的真空泵需頻繁更換泵油、影響拉晶工藝需求的問題。
本發明所采用的一種技術方案是:尾氣過濾裝置,包括容置有過濾油的罐體,罐體上分別設有高于過濾油液面的進氣口和出氣口,罐體內設有浸入過濾油內的第一過濾部和第二過濾部,第二過濾部環繞設置于第一過濾部的周圍,且第二過濾部位于第一過濾部靠近過濾油液面的一側。
本發明的特點還在于,
第一過濾部開設有多個第一過濾孔,第二過濾部開設有多個第二過濾孔,第二過濾孔的孔徑小于第一過濾孔的孔徑。
還包括連通于進氣口的過濾引導件,過濾引導件具有遠離進氣口的過濾出口部,過濾出口部浸入過濾油中。
第一過濾部設置于過濾出口部的內側,第二過濾部設置于過濾出口部的外側。
過濾引導件還具有連接進氣口的引入部,引入部通過擴徑部與過濾出口部相連,經過擴徑部的擴徑后使得過濾出口部的口徑大于引入部的口徑。
罐體內的過濾油沿垂直于其液面的方向,進氣口位于出氣口及過濾油的液面之間。
罐體包括可拆卸連接于一體的上罐體和下罐體,進氣口和出氣口均開設于上罐體,且出氣口位于進氣口遠離下罐體的一側。
罐體還具有開設于所述下罐體底部的排出口,排出口上設置有氣密閥門。
本發明所采用的另一種技術方案是:單晶爐真空系統,包括單晶爐、真空泵以及上述的尾氣過濾裝置,尾氣過濾裝置通過連接管道連接于單晶爐和真空泵之間。
本發明的特點還在于,
還包括連接所述單晶爐與真空泵的旁路管道,旁路管道上設置有旁路閥門。
本發明的有益效果是:本發明的尾氣過濾裝置利用第一過濾部和第二過濾部,對進入的尾氣進行分流,使帶有雜質的尾氣與過濾油充分地接觸,由于過濾油的作用,尾氣中的雜質潤濕后進入過濾油中,并沉入罐體底部,其雜質吸收效果好、且雜質容納量大,如此,可以延長清理周期并減少清理的頻次。本發明的單晶爐真空系統,在單晶爐與真空泵之間設置上述尾氣過濾裝置,該尾氣過濾裝置可以過濾吸收尾氣中的大部分雜質,使得進入真空泵的氣體的雜質含量減少,從而不必頻繁更換真空泵油,能滿足單晶爐長時間運行的工藝需求。
附圖說明
圖1是本發明的尾氣過濾裝置的結構示意圖;
圖2是圖1中II處的局部放大圖;
圖3是本發明的單晶爐真空系統的連接示意圖;
圖4是本發明的單晶爐真空系統的結構示意圖。
圖中,10.尾氣過濾裝置,1.罐體,11.上罐體,12.下罐體,13.蓋體,14.進氣口,15.出氣口,16.排出口,17.氣密閥門,2.過濾體,21.第一過濾部,22.第二過濾部,23.第一過濾孔,24.第二過濾孔,3.過濾引導件,31.引入部,32.過濾出口部,33.擴徑部,4.支撐體,101.單晶爐,102.真空泵,103.連接管道,104.旁路管道,105.旁路閥門。
具體實施方式
下面結合附圖和具體實施方式對本發明進行詳細說明。
本發明提供的尾氣過濾裝置10結構如圖1和圖2所示,包括一個罐體1、一個過濾體2、一個過濾引導件3和多個支撐體4。過濾體2和過濾引導件3均位于罐體1內。多個支撐體4用于支撐罐體1。
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