[發明專利]一種制備過氧化氫用單晶半導體氧化物陽極及電解槽有效
| 申請號: | 201610568099.4 | 申請日: | 2016-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN105970247B | 公開(公告)日: | 2018-06-08 |
| 發明(設計)人: | 李國嶺 | 申請(專利權)人: | 李國嶺 |
| 主分類號: | C25B1/30 | 分類號: | C25B1/30;C25B11/06 |
| 代理公司: | 洛陽公信知識產權事務所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 孫笑飛 |
| 地址: | 471023 河南省洛陽市洛龍*** | 國省代碼: | 河南;41 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電解槽 半導體氧化物層 單晶半導體 氧化物陽極 陽極 導電玻璃 過氧化氫 基板 制備 堿性電解液 光照條件 電極 單晶片 導電膜 釩酸鉍 陽極區 陰極區 槽壁 晶向 摻雜 承載 覆蓋 | ||
【說明書】:
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于李國嶺,未經李國嶺許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610568099.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種陣列式電解錳陰極板剝離裝置及方法
- 下一篇:一種砂光機





