[發明專利]激光誘導CVD設備有效
| 申請號： | 201610505715.1 | 申請日： | 2016-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN105887046B | 公開（公告）日： | 2018-07-31 |
| 發明（設計）人： | 吳衛東;彭麗萍;王雪敏;黎維華;樊龍;蔣濤;王新明;湛治強;沈昌樂;閻大偉;趙妍;鄧青華 | 申請（專利權）人： | 中國工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號： | C23C16/455 | 分類號： | C23C16/455;C23C16/44 |
| 代理公司： | 蘇州根號專利代理事務所(普通合伙) 32276 | 代理人： | 項麗 |
| 地址： | 621999*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 激光 誘導 cvd 設備 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國工程物理研究院激光聚變研究中心，未經中國工程物理研究院激光聚變研究中心許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610505715.1/2.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：多頻電容耦合等離子體刻蝕腔
- 下一篇：多陰極磁控濺射干擾控制裝置及方法
- 同類專利
- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
