[發明專利]具有高深寬比微結構的復合膜的制造方法有效
| 申請號： | 201610494701.4 | 申請日： | 2016-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN106113891B | 公開（公告）日： | 2017-12-29 |
| 發明（設計）人： | 吳龍海;趙士維 | 申請（專利權）人： | 明基材料有限公司;明基材料股份有限公司 |
| 主分類號： | B32B37/15 | 分類號： | B32B37/15;B32B38/00;B32B38/04 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215121 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 高深 微結構 復合 制造 方法 | ||
1.一種具有高深寬比微結構的復合膜的制造方法，其特征在于，該制造方法包含以下步驟：
提供具有凹部表面的弧形底座；
設置撓性基材于該弧形底座的該凹部表面，并涂布可固化的聚合物層于該撓性基材表面，以形成復合膜；
預固化該聚合物層；
形成復數個凹槽結構于該聚合物層上，并完全固化該聚合物層；
自該弧形底座移除該復合膜；以及
平坦化該復合膜，使該復數個凹槽結構朝向該聚合物層的厚度方向分裂而形成復數個高深寬比微結構；
其中，該復數個高深寬比微結構的深寬比為5至100。
2.如權利要求1所述的具有高深寬比微結構復合膜的制造方法，其特征在于，該撓性基材的斷裂伸長率為5％至20％。
3.如權利要求1所述的具有高深寬比微結構復合膜的制造方法，其特征在于，該聚合物層的斷裂伸長率為0至2％。
4.如權利要求1所述的具有高深寬比微結構復合膜的制造方法，其特征在于，形成該復數個凹槽結構于該聚合物層的方式包含使用模具或雕刻輪壓印。
5.如權利要求1所述的具有高深寬比微結構復合膜的制造方法，其特征在于，固化該聚合物層的方式包含光固化或熱固化。
6.如權利要求1所述的具有高深寬比微結構復合膜的制造方法，其特征在于，該撓性基材選自聚碳酸酯、醋酸纖維素、聚烯烴或聚對苯二甲酸乙二酯。
7.如權利要求1所述的具有高深寬比微結構復合膜的制造方法，其特征在于，該聚合物層選自酚醛樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚苯乙烯。
8.如權利要求1所述的具有高深寬比微結構復合膜的制造方法，其特征在于，該弧形底座的該凹部表面為粘著性表面，使該撓性基材貼附于該弧形底座的該凹部表面。
9.如權利要求1所述的具有高深寬比微結構復合膜的制造方法，其特征在于，該弧形底座進一步包含復數個氣體通道，該復數個氣體通道與該凹部表面相通，該復數個氣體通道用以傳導負壓吸附該撓性基材于該凹部表面，以及傳導正壓以移除該復合膜。
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