[發明專利]適用于染料分離的高導熱靜電紡絲薄膜及制備方法和應用

有效

• 申請號: 201711071828.6
• 申請日: 2017-11-03
• 公開（公告）號: CN107881651B
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 范金辰;尹傳根;閔宇霖;徐群杰
• 申請（專利權）人: 上海電力學院
• 主分類號: D04H1/728
• 分類號: D04H1/728;D04H1/4309;D01F6/50;D01F1/10;C02F1/44
• 代理公司: 上海科盛知識產權代理有限公司 31225
• 代理人: 林君如

1.一種適用于染料分離的高導熱靜電紡絲薄膜的應用，其特征在于，由對氨基苯磺酸功能化的氮化硼納米材料與水溶性聚乙烯醇共混復合后靜電紡絲得到復合絲直徑為5～500nm，薄膜厚度為1μm～5mm的聚乙烯醇/氮化硼納米復合膜，即為所述的適用于染料分離的高導熱靜電紡絲薄膜；該高導熱靜電紡絲薄膜用于玫瑰紅/孔雀石綠混合染料的分離；

適用于染料分離的高導熱靜電紡絲薄膜的制備方法包括以下步驟：

(1)將氮化硼粉末和對氨基苯磺酸在惰性氣體保護下，球磨處理10～30h；

(2)球磨處理后取出并分散在去離子水中，超聲處理5～12h，然后過濾并用去離子水洗滌過濾得到的固體；

(3)將固體再超聲分散在去離子水中，3000～4000rpm離心分離，過濾，干燥后獲得氮化硼納米填料，即為對氨基苯磺酸功能化的氮化硼納米材料；

(4)在90～95℃的溫度下，將聚乙烯醇溶解到氮化硼納米填料的分散液中，得到氮化硼納米填料-聚乙烯醇紡絲液；

(5)采用靜電紡絲法制得聚乙烯醇/氮化硼納米復合膜，即為所述的適用于染料分離的高導熱靜電紡絲薄膜；

步驟(4)中，氮化硼納米填料與聚乙烯醇的質量比為1:10～1:1000；

當氮化硼納米填料填充量為1.0wt％時聚乙烯醇/氮化硼納米復合膜對染料的總體吸附效果最佳，當氮化硼納米填料填充量為5.0wt％時聚乙烯醇/氮化硼納米復合膜對染料的選擇性吸附效果最佳。

2.根據權利要求1所述的適用于染料分離的高導熱靜電紡絲薄膜的應用，其特征在于，步驟(1)中氮化硼粉末與對氨基苯磺酸的質量比為1:1～1:40。

3.根據權利要求1所述的適用于染料分離的高導熱靜電紡絲薄膜的應用，其特征在于，所述的球磨處理過程中的球磨珠包括瑪瑙球磨珠或氧化鋯球磨珠，且氮化硼粉末與對氨基苯磺酸的總質量與球磨珠的總質量比為1:1～1:10。

4.根據權利要求1或3所述的適用于染料分離的高導熱靜電紡絲薄膜的應用，其特征在于，所述的球磨處理過程中的球磨速度為500～750r/min。

5.根據權利要求1所述的適用于染料分離的高導熱靜電紡絲薄膜的應用，其特征在于，氮化硼粉末包括氮化硼納米片、氮化硼納米管及氮化硼納米晶須中的至少一種。

6.根據權利要求1所述的適用于染料分離的高導熱靜電紡絲薄膜的應用，其特征在于，所述的靜電紡絲采用針頭式靜電紡絲工藝，并采用接收輥作為接收裝置，針頭與接收輥之間電壓為15～18kV，接收輥轉速40～80r/min，注射泵到接收輥的距離為10～20cm，注射速率0.01～0.1mm/min，注射器平移速率0～200mm/min，平移距離0～30mm。