[發(fā)明專(zhuān)利]一種清洗裝置及采用該裝置的清洗方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610427020.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-06-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105935674B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-02-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 侯洪濤;田小讓;谷士斌;張林;趙冠超;徐湛;楊榮;李立偉;郭鐵 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 新奧光伏能源有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B08B3/04 | 分類(lèi)號(hào): | B08B3/04;B08B3/08;H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 065001 河北省*** | 國(guó)省代碼: | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 清洗 裝置 采用 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電子元器件清洗技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種清洗裝置及采用該裝置的清洗方法。
背景技術(shù)
隨著制造技術(shù)的發(fā)展,特別是太陽(yáng)能電池、半導(dǎo)體、光學(xué)器件、精密儀器等的發(fā)展,對(duì)物品表面清潔度的要求越來(lái)越高,這就要求在清洗過(guò)程中確保清洗溶液的潔凈度,而有些清洗溶液容易揮發(fā),相鄰的不同類(lèi)型清洗溶液的揮發(fā)汽就會(huì)發(fā)生相互反應(yīng),導(dǎo)致清洗溶液被污染。目前在半導(dǎo)體行業(yè)普遍采用的是1965年由Kern和Puotinen等人在N.J.Princeton的RCA實(shí)驗(yàn)室首創(chuàng)并由此而得名的RCA清洗,RCA清洗過(guò)程中會(huì)用到氨水、雙氧水、硝酸、氫氟酸、硫酸、硝酸等清洗溶液,其中部分溶液易揮發(fā),而揮發(fā)汽相互混合不僅會(huì)產(chǎn)生新的雜質(zhì),還會(huì)有很大的安全隱患,因此各溶液之間的隔離顯得非常重要。
常規(guī)的清洗裝置有單槽清洗裝置、開(kāi)放式清洗裝置。
圖1為單槽清洗裝置示意圖,如圖所示,單槽清洗裝置中的每個(gè)槽體都有一個(gè)保護(hù)腔體,在圖中,一號(hào)槽、二號(hào)槽、三號(hào)槽分別對(duì)應(yīng)三個(gè)單獨(dú)的保護(hù)腔體,使用單槽清洗裝置進(jìn)行清洗的方法是:
機(jī)械臂每次將清洗物品從一號(hào)槽清洗之后取出放到保護(hù)腔體外,放置到另一個(gè)保護(hù)腔體中的二號(hào)槽,二號(hào)槽沖洗之后取出再放到保護(hù)腔體外,然后再放到另一個(gè)保護(hù)腔體中的三號(hào)槽,三號(hào)槽清洗后再取出,清洗順序可以作調(diào)整但是只能一個(gè)槽出來(lái)之后放到保護(hù)腔體外,然后再進(jìn)入另一個(gè)保護(hù)腔體中的其他槽位進(jìn)行清洗,這樣清洗可以很好的避免相鄰溶液的污染。
圖2為開(kāi)放式清洗裝置示意圖,如圖所示,開(kāi)放式清洗裝置中多個(gè)槽體共用同一個(gè)保護(hù)腔體,在圖中,一號(hào)槽、二號(hào)槽、三號(hào)槽共用一個(gè)單獨(dú)的保護(hù)腔體,清洗物品從保護(hù)腔體的一端進(jìn)入清洗線,并從保護(hù)腔體的另一端取出,清洗方法是:機(jī)械臂每次將清洗物品從清洗線一端放入一號(hào)槽,清洗之后通過(guò)機(jī)械臂從一號(hào)槽取出依次放入到二號(hào)槽、三號(hào)槽,這樣清洗可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)清洗作業(yè)。
現(xiàn)有技術(shù)的不足在于:?jiǎn)尾矍逑囱b置無(wú)法進(jìn)行連續(xù)性清洗,大大降低了清洗效率,而開(kāi)放式清洗裝置無(wú)法避免因清洗溶液的揮發(fā)性汽體及蒸汽,溶液相互混合之后還會(huì)反應(yīng)生成新的化學(xué)物質(zhì),有的甚至?xí)a(chǎn)生有毒、易燃、易爆的物質(zhì),給安全生產(chǎn)帶來(lái)隱患,同時(shí)溶液交叉污染會(huì)降低清洗效果,溶液被污染之后只能進(jìn)行換液,增加了清洗成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種清洗裝置及采用該裝置的清洗方法,用以在進(jìn)行連續(xù)清洗時(shí),避免相鄰清洗槽之間因揮發(fā)性汽體、溶液噴濺造成的交叉污染以及產(chǎn)生的安全隱患。
本發(fā)明實(shí)施例中提供了一種清洗裝置,包括:保護(hù)腔體、第一清洗槽體、第二清洗槽體以及隔離裝置,其中:
所述第一清洗槽體、所述第二清洗槽體以及所述隔離裝置置于保護(hù)腔體中,所述第一清洗槽體處于所述保護(hù)腔體中的第一空間,所述第二清洗槽體處于所述保護(hù)腔體中的第二空間;
所述隔離裝置包括隔離物與隔離容器,其中:
所述隔離物一端置于所述隔離容器中,所述隔離物另一端固定于所述保護(hù)腔體頂部,在所述隔離容器中有隔離液體時(shí),所述隔離物將所述第一空間與所述第二空間隔離。
較佳地,進(jìn)一步包括:傳送裝置,所述傳送裝置在所述隔離容器的底部,用于將所述隔離容器中的物品從所述隔離容器處于所述第一空間的一側(cè)傳送到處于所述第二空間的一側(cè)。
較佳地,所述傳送裝置為以下一種或者其組合的裝置:傳送皮帶、傳送鏈條、傳送板。
較佳地,所述隔離容器的寬度與所述保護(hù)腔體的寬度相同,所述隔離物的寬度與所述保護(hù)腔體的寬度相同。
較佳地,所述隔離容器的寬度小于所述保護(hù)腔體的寬度,所述隔離物包括第一部分與第二部分,其中,第一部分固定在所述保護(hù)腔體兩側(cè)側(cè)壁,該部分的高度與所述保護(hù)腔體的高度相同,該部分的寬度為所述保護(hù)腔體側(cè)壁到所述隔離容器側(cè)壁的距離;第二部分固定在所述保護(hù)腔體頂端,該部分的下端浸入隔離液體中,該部分的兩側(cè)卡合在第一部分的側(cè)面。
較佳地,所述隔離物為伸縮式或者折疊式的板狀結(jié)構(gòu)。
較佳地,所述保護(hù)腔體為方形。
本發(fā)明實(shí)施例中還提供了一種采用上述的清洗裝置的清洗方法,包括:
將欲清洗物品放置于所述第一清洗槽體;
在所述第一清洗槽體清洗完畢后取出并放置于所述隔離容器中,并將所述欲清洗物品從所述隔離容器處于所述第一空間的一側(cè)通過(guò)所述隔離物后傳送到處于所述第二空間的一側(cè);
將所述欲清洗物品從所述隔離容器中取出并放置于所述第二清洗槽體。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于新奧光伏能源有限公司,未經(jīng)新奧光伏能源有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610427020.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





