[發(fā)明專利]一種三氧化鉬納米棒的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610401980.5 | 申請日: | 2016-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN105836803B | 公開(公告)日: | 2017-04-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 苗鳳娟;李倩倩;陶佰睿;張微 | 申請(專利權(quán))人: | 齊齊哈爾大學(xué) |
| 主分類號: | C01G39/02 | 分類號: | C01G39/02;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 齊齊哈爾鶴城專利事務(wù)所23207 | 代理人: | 劉麗 |
| 地址: | 161006 黑龍江*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氧化鉬 納米 制備 方法 | ||
1.一種三氧化鉬納米棒的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:
第一步:制作金屬鉬基底
A、選取純度為99.99%的鉬箔,規(guī)格為1 cm * 1 cm * 0.1 cm;
B.通過五步超聲清洗,去除鉬箔表面雜質(zhì),分別是:去離子水,時間:5min;丙酮,時間:5min;去離子水,時間:5min;1M NaOH溶液,時間:5min;去離子水,時間:5min;
C.室溫下晾干;
第二步:制作刻蝕溶液
所述的刻蝕溶液成分及配比如下:
A.HNO3質(zhì)量分?jǐn)?shù)為65%,加去離子水稀釋配置其物質(zhì)的量濃度為3.6M,HNO3與H2O體積比為1:3;
B.配置AgNO3物質(zhì)的量濃度為0.01M,方法是取0.034g AgNO3放入20ml的A溶液中;
C.將B中配置的溶液放入超聲儀中超聲5min,目的是使溶液均勻,備用;
第三步:深度刻蝕金屬鉬,將金屬鉬基底浸入刻蝕溶液中刻蝕形成氧化層
A.將第一步中制得的金屬鉬基底浸入第二步中的刻蝕溶液中刻蝕90min,保證室溫20±5 ℃;
B.將A中刻蝕后的樣品放入物質(zhì)的量濃度為3.6M的HNO3溶液中浸泡30s;
C.將經(jīng)過B處理后的樣品取出,室溫下晾干;
第四步:制備三氧化鉬納米棒
將第三步中處理的樣品放入管式爐,600℃退火2h,10℃/min,得到三氧化鉬納米棒。
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