[發明專利]一種自清潔光學樹脂鏡片及其制備方法

有效

• 申請號: 201610297737.3
• 申請日: 2016-05-06
• 公開（公告）號: CN105785484B
• 公開（公告）日: 2017-09-01
• 發明（設計）人: 趙嵐;曹明
• 申請（專利權）人: 浙江工貿職業技術學院
• 主分類號: G02B1/18
• 分類號: G02B1/18;G02B1/14;G02C7/00
• 代理公司: 北京富天文博興知識產權代理事務所(普通合伙)11272
• 代理人: 劉壽椿

1.一種自清潔光學樹脂鏡片的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟S01，清潔：將樹脂基片浸入到無水乙醇中浸泡2h～4h，取出后放置在真空干燥箱內，在35℃～42℃的溫度條件下干燥處理1h～3h，得樹脂基片I；

步驟S02，微波水熱反應：將ZnO納米粉體或者Sm₂O₃納米粉體與非離子型表面活性劑按照15～20：1～1.5的質量百分比投入到堿性溶液中，將體系移入聚四氟乙烯反應釜中，在130℃～150℃的溫度條件下進行微波水熱反應30min～60min，反應結束后對反應體系進行自然降溫至室溫，得到納米ZnO溶液或者納米Sm₂O₃溶液；

步驟S03，成膜：將樹脂基片I以2cm/min～4cm/min的速度緩慢投入到步驟S02得到的納米ZnO溶液或者納米Sm₂O₃溶液中，在真空環境下，靜置浸漬12h～24h，使樹脂基片表面生長出一層致密的疏水膜，然后將樹脂基片取出后放置于真空干燥箱內，在40℃～50℃的溫度條件下干燥處理4h～8h，得樹脂基片II；

步驟S04，固化：將樹脂基片II在105℃～125℃的溫度條件下進行熱固化處理8min～13min，得樹脂基片III；

步驟S05，濺射：將樹脂基片III放置于真空中壓射頻濺射裝置中，進行中壓射頻濺射處理10min～15min，在樹脂基片的表面鍍一層SiO₂膜，得樹脂基片IV；

步驟S06，二次固化：將樹脂基片IV在120℃～140℃的溫度條件下進行熱固化處理5min～10min，即得自清潔光學樹脂鏡片。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟S02中，所述ZnO納米粉體或者Sm₂O₃納米粉體的粒度為50nm～120nm。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟S02中，所述非離子型表面活性劑為聚環氧乙烷，硬脂酸甘油三酯，溴化四苯基磷鎓，氫氧化四丁基磷鎓，月桂醇聚氧乙烯醚，失水山梨醇脂肪酸酯，癸基葡萄糖苷，乙二醇脂肪酸酯中的任一種或兩種以上的混合物。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟S02中，所述堿性溶液為氫氧化鈉、二乙烯三胺、氨水、乙二胺、脂肪仲胺、N,N-二甲基苯胺中的任一種。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟S02中，所述堿性溶液的質量是投入的ZnO納米粉體或者Sm₂O₃納米粉體與非離子型表面活性劑總質量的30倍～60倍。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟S02中，所述微波水熱反應具體為：反應壓力為0.2MPa～1.8MPa，反應功率為300W～1500W。

7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟S03中，所述疏水膜的厚度為250nm～500nm。

8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟S03中，所述疏水膜的硬度為：7H～10H。

9.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟S05中，所述中壓射頻濺射處理具體為：靶材采用疏水型納米二氧化硅，在氬氣保護下，在溫度為60℃～78℃，真空度為2×10^-4Pa～4×10^-4Pa，濺射電壓為150V～300V，襯底溫度為120℃～150℃的條件下進行中壓射頻濺射處理，制得厚度為60nm～120nm的SiO₂薄膜。

10.一種自清潔光學樹脂鏡片，其特征在于，采用權利要求1～9中任一項所述的制備方法制備而成。