[發(fā)明專利]發(fā)光均勻度校正設(shè)備及其校正方法

在審

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• 申請日: 2016-04-27
• 公開（公告）號: CN107315319A
• 公開（公告）日: 2017-11-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張鴻明
• 申請（專利權(quán)）人: 川寶科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市浩天知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11276
• 代理人: 劉云貴,王東

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明關(guān)于一種校正設(shè)備及校正方法，更特別的是關(guān)于用于對曝光機(jī)的發(fā)光均勻度進(jìn)行校正的發(fā)光均勻度校正設(shè)備及其校正方法。

背景技術(shù)

目前產(chǎn)業(yè)界制造電路板時普遍需利用到曝光機(jī)，而具有由多個光源組成的發(fā)光模塊的多光源曝光機(jī)也越來越受到重視，一般來說，該發(fā)光模塊的光源系由多個發(fā)光二極管所組成，但這些發(fā)光二極管由于其自身特性的不同(例如制程差異、使用時數(shù)不同等)而會造成各該發(fā)光二極管的發(fā)光強(qiáng)度不同，使該發(fā)光模塊發(fā)光不均勻，其會直接使得感光電路板吸收的光能不均，進(jìn)而造成當(dāng)下曝光的感光電路板報廢，因此確保多光源曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度被視為一個重要的議題。

然而，目前現(xiàn)有的多光源曝光機(jī)，并未具有一個自動化設(shè)備來自動檢測以確保曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度，而是讓作業(yè)人員透過一手持式檢測設(shè)備來對該發(fā)光模塊上的各個光源進(jìn)行手動量測，使用上并不方便；更或者是直接利用該曝光機(jī)對一個質(zhì)地均勻的感光電路板進(jìn)行曝光作業(yè)后，分析該電路板各個位置的曝光程度來驗證發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度，此種檢測方式非常耗時且成本過高。

因此，如何研發(fā)出一種發(fā)光均勻度校正設(shè)備及其校正方法，以確保曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度進(jìn)而提升電路板的制造良率，將是本發(fā)明所欲積極公開之處。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的一目的在于提供一種能自動更正曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度的校正設(shè)備。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種校正曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度的校正方法。

為達(dá)上述目的及其他目的，本發(fā)明提出一種發(fā)光均勻度校正設(shè)備，適用于對曝光機(jī)的一發(fā)光模塊進(jìn)行發(fā)光均勻度校正，且該發(fā)光模塊系具有多個發(fā)光單元以產(chǎn)生一面光源，該發(fā)光均勻度校正設(shè)備系包含一感測模塊、一移動模塊、一處理模塊及一調(diào)整模塊。該感測模塊系與該發(fā)光模塊的發(fā)光面相對設(shè)置，并于對應(yīng)該發(fā)光面的多個取樣位置上對該發(fā)光面進(jìn)行光強(qiáng)度感測，且根據(jù)于各該取樣位置所感測的光線的強(qiáng)度而分別產(chǎn)生對應(yīng)的一光強(qiáng)度訊號；該移動模塊系根據(jù)一取樣位置信息訊號，使該感測模塊與該發(fā)光模塊之間產(chǎn)生相對位移以于各該取樣位置間進(jìn)行移動；該處理模塊系與該感測模塊及該移動模塊相耦接，并輸出該取樣位置信息訊號且接收該感測模塊于各該取樣位置所產(chǎn)生的光強(qiáng)度訊號，并于該發(fā)光面的發(fā)光均勻度不符合一均勻度標(biāo)準(zhǔn)時產(chǎn)生對應(yīng)的一校正訊號；及該調(diào)整模塊系與該處理模塊及該發(fā)光模塊相耦接，系根據(jù)該校正訊號對應(yīng)地調(diào)整這些發(fā)光單元中的至少一者的發(fā)光強(qiáng)度。

于本發(fā)明的一實施例中，該調(diào)整模塊系根據(jù)該校正訊號分別調(diào)整對這些發(fā)光單元中的至少一者的供電量，以分別改變被調(diào)整的各該發(fā)光單元的發(fā)光強(qiáng)度。

于本發(fā)明的一實施例中，該處理模塊取得該面光源上具有異常光強(qiáng)度的區(qū)塊的一異常坐標(biāo)位置信息及一異常光強(qiáng)度信息，并將該異常坐標(biāo)位置信息及該異常光強(qiáng)度信息搭載于該校正訊號來輸出。

于本發(fā)明的一實施例中，該調(diào)整模塊系根據(jù)該異常坐標(biāo)位置信息來定位出發(fā)光異常的發(fā)光單元，并根據(jù)該異常光強(qiáng)度信息來調(diào)整被定位的發(fā)光單元的發(fā)光強(qiáng)度。

于本發(fā)明的一實施例中，該感測模塊系為光電轉(zhuǎn)換器。

于本發(fā)明的一實施例中，該光電轉(zhuǎn)換器系具有光電二極管。

為達(dá)上述目的及其他目的，本發(fā)明還提出一種發(fā)光均勻度校正方法，系使用上述的發(fā)光均勻度校正設(shè)備來對曝光機(jī)的發(fā)光模塊進(jìn)行發(fā)光均勻度校正，該發(fā)光均勻度校正方法系包含分辨率設(shè)定步驟、光強(qiáng)度感測步驟、均勻度分析步驟及均勻度校正步驟。該分辨率設(shè)定步驟系設(shè)定該曝光機(jī)的發(fā)光模塊的多個取樣位置的數(shù)量及坐標(biāo)；該光強(qiáng)度感測步驟系分別于這些取樣位置上對該曝光機(jī)的發(fā)光模塊的發(fā)光面進(jìn)行光強(qiáng)度感測；該均勻度分析步驟系根據(jù)各該取樣位置的光強(qiáng)度進(jìn)行分析并判斷各該取樣位置的光強(qiáng)度是否符合該均勻度標(biāo)準(zhǔn)，若不符合系進(jìn)入該均勻度校正步驟，若符合則結(jié)束該校正方法；及該均勻度校正步驟系根據(jù)光強(qiáng)度異常的取樣位置取得對應(yīng)該取樣位置的發(fā)光單元，并對該發(fā)光單元的發(fā)光強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整。

于本發(fā)明的一實施例中，該均勻度校正步驟后更包含均勻度確保步驟，系再次分別于這些取樣位置上對該發(fā)光面進(jìn)行光強(qiáng)度感測，并判斷各該取樣位置的光強(qiáng)度是否符合該均勻度標(biāo)準(zhǔn)，若不符合系進(jìn)入該均勻度校正步驟，若符合則結(jié)束該校正方法。

由此，本發(fā)明的發(fā)光均勻度校正設(shè)備及其校正方法，系以自動化設(shè)備來對該曝光機(jī)的發(fā)光模塊進(jìn)行發(fā)光均勻度校正，可迅速地且方便地針對于該發(fā)光模塊的發(fā)光強(qiáng)度有異常的區(qū)域各別進(jìn)行調(diào)整，以確保該發(fā)光模塊的發(fā)光均勻度，進(jìn)而提升電路板的制造良率。

附圖說明