[發明專利]一種自調節?膜雙循環?冷凝?活性炭吸附?低溫催化氧化組合裝置有效
| 申請號: | 201610241433.5 | 申請日: | 2016-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN105797544B | 公開(公告)日: | 2018-04-03 |
| 發明(設計)人: | 沈陽 | 申請(專利權)人: | 北京瑞惠環保科技有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/22 | 分類號: | B01D53/22;B01D53/02;B01D53/14;F23G7/06;B01D53/00 |
| 代理公司: | 宜興市天宇知識產權事務所(普通合伙)32208 | 代理人: | 蔣何棟 |
| 地址: | 102500 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 調節 雙循環 冷凝 活性炭 吸附 低溫 催化 氧化 組合 裝置 | ||
技術領域
本發明屬于環保領域,具體涉及一種自調節-膜雙循環-冷凝-活性炭吸附-低溫催化氧化組合裝置。
背景技術
在煉油、化工以及出品儲運過程及使用過程中,經常要排放一些富含易揮發性有機物質的氣體,如化工生產過程中排放的各類溶劑的飽和氣體、油庫中的油氣等等,造成巨大資源浪費的同時,對環境具有極大的破壞作用。隨著對環保要求的逐漸提高,同時節能降耗的經濟利益也驅使企業尋找高效回收處理VOCs的技術。相對于傳統的有機氣體的分離、富集和回收方法,本裝置由于具有過程連續、穩定經久耐用,成本和能耗低、分離系數高以及無二次污染等優點,在有機氣體分離回收領域具備技術上的領先。
發明內容
發明目的:本發明的目的在于針對現有技術的不足,提供一種自調節-膜雙循環-冷凝-活性炭吸附-低溫催化氧化組合裝置。
技術方案:為了達到上述發明目的,本發明具體是這樣來完成的:一種自調節-膜雙循環-冷凝-活性炭吸附-低溫催化氧化組合裝置,包括儲罐,儲罐進口由氮氣閥門控制,儲罐通過離心泵連接一號緩沖罐,儲罐另通過壓縮設備連接一號緩沖罐,在儲罐與壓縮設備之間設有一號混合氣體閥門,所述氮氣閥門通過管道直接與一號緩沖罐相連,在氮氣閥門與一號緩沖罐之間的管道上設有二號混合氣體閥門,二號混合氣體閥門通過管道與氮氣閥門連接且該管道通過一號壓力監控器連接至儲罐;所述一號緩沖罐設有液位監控器,且一號緩沖罐通過管道連接一號膜處理器并通過管道上的三號混合氣體閥門控制,三號混合氣體閥門另通過管道連接二號壓力監控器并接回至一號緩沖罐,所述一號膜處理器通過管道依次與一號堿吸收塔、一號活性炭吸收塔連接,并通過另一管道直接與一號活性炭吸收塔相連,所述一號膜處理器與一號活性炭吸收塔之間的管道分別與真空設備、壓縮冷卻設備、二號緩沖罐依次相連,二號緩沖罐出口由不凝氣閥門控制,二號緩沖罐另通過管道依次與四號混合氣體閥門、二號膜處理器相連,所述不凝氣閥門、四號混合氣體閥門分別連接至三號壓力監控器后再回接至二號緩沖罐;所述二號膜處理器出口分別與焚燒裝置、真空設備入口相連;所述二號膜處理器通過管道直接與一號膜處理器相連。
有益效果:本發明與傳統技術相比,本裝置具有如下優點:
1、無相變,不需要耗費能量用于潛熱的吸收,過程連續穩定,操作工況簡單溫和;
2、不需要回收萃取劑或再生吸附劑而增加耗能,可進行深度處理,尾氣處理更加深入;
3、組件體積小,模塊化、自動化程度高,具有易耦合的特性;
4、安全性高,低壓低溫,并且是連續穩定的過程,不存在放熱過程,裝置體積小,連接管路壓降小,具備自動化控制及模塊設計,無需增加操作人員。
附圖說明
圖1為本發明結構示意圖。
具體實施方式
實施例1:
如圖1所示的1自調節-膜雙循環-冷凝-活性炭吸附-低溫催化氧化組合裝置,包括儲罐1,儲罐1進口由氮氣閥門2控制,儲罐1通過離心泵3連接一號緩沖罐4,儲罐1另通過壓縮設備5連接一號緩沖罐4,在儲罐1與壓縮設備5之間設有一號混合氣體閥門6,所述氮氣閥門1通過管道直接與一號緩沖罐4相連,在氮氣閥門1與一號緩沖罐4之間的管道上設有二號混合氣體閥門7,二號混合氣體閥門7通過管道與氮氣閥門2連接且該管道通過一號壓力監控器8連接至儲罐1;所述一號緩沖罐4設有液位監控器9,且一號緩沖罐4通過管道連接一號膜處理器10并通過管道上的三號混合氣體閥門11控制,三號混合氣體閥門11另通過管道連接二號壓力監控器12并接回至一號緩沖罐4,所述一號膜處理器10通過管道依次與一號堿吸收塔13、一號活性炭吸收塔14連接,并通過另一管道直接與一號活性炭吸收塔14相連,所述一號膜處理器10與一號活性炭吸收塔14之間的管道分別與真空設備15、壓縮冷卻設備16、二號緩沖罐17依次相連,二號緩沖罐17出口由不凝氣閥門18控制,二號緩沖罐17另通過管道依次與四號混合氣體閥門19、二號膜處理器20相連,所述不凝氣閥門18、四號混合氣體閥門19分別連接至三號壓力監控器21后再回接至二號緩沖罐17;所述二號膜處理器20出口分別與焚燒裝置22、真空設備15入口相連;所述二號膜處理器20通過管道直接與一號膜處理器10相連。
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