[發(fā)明專利]穩(wěn)定的以氣體為絕緣層的納米線場效應(yīng)晶體管及制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610237551.9 | 申請日: | 2016-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN105742347A | 公開(公告)日: | 2016-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 塔力哈爾·夏依木拉提;李文亮;彭敏;馮艷;謝寧 | 申請(專利權(quán))人: | 塔力哈爾·夏依木拉提 |
| 主分類號: | H01L29/772 | 分類號: | H01L29/772;H01L29/10;H01L21/335;B82Y10/00 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245 | 代理人: | 徐寧;孫楠 |
| 地址: | 830000 新疆維吾爾自*** | 國省代碼: | 新疆;65 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 穩(wěn)定 氣體 絕緣 納米 場效應(yīng) 晶體管 制備 方法 | ||
1.一種穩(wěn)定的以氣體為絕緣層的納米線場效應(yīng)晶體管,其特征在于:它包括柵極、支撐層、源漏電極、微納單晶半導(dǎo)體和氣體間隙絕緣層;所述柵極為襯底,所述柵極上部設(shè)置有所述支撐層,所述支撐層上部兩側(cè)各設(shè)置有一個所述源漏電極,在兩所述源漏電極之間設(shè)置有所述微納單晶半導(dǎo)體;位于兩所述源漏電極之間的所述微納單晶半導(dǎo)體下方,在所述支撐層上縱向間隔設(shè)置有若干溝道,相鄰溝道之間形成溝槽;由所述柵極上部、所述微納單晶半導(dǎo)體下部和所述支撐層中間的溝槽構(gòu)成若干個所述氣體間隙絕緣層。
2.如權(quán)利要求1所述的穩(wěn)定的以氣體為絕緣層的納米線場效應(yīng)晶體管,其特征在于:所述柵極表層具有導(dǎo)電特性,導(dǎo)電要求是所述柵極本身導(dǎo)電,或是在所述柵極表層設(shè)置有導(dǎo)電薄膜。
3.如權(quán)利要求1所述的穩(wěn)定的以氣體為絕緣層的納米線場效應(yīng)晶體管,其特征在于:所述氣體間隙絕緣層的寬度為2-5微米。
4.如權(quán)利要求1所述的穩(wěn)定的以氣體為絕緣層的納米線場效應(yīng)晶體管,其特征在于:以氣體為絕緣層的納米線場效應(yīng)晶體管器件采用微納單晶單根或單晶多根材料制作,或采用不同的微納單晶制作。
5.一種如權(quán)利要求1-4任一項所述穩(wěn)定的以氣體為絕緣層的納米線場效應(yīng)晶體管的制備方法,其特征在于包括以下步驟:
1)對襯底進(jìn)行清洗,將有機(jī)絕緣材料溶解到溶劑中;
2)將配置好的溶液滴到襯底上后進(jìn)行旋涂,隨后放置在熱板上進(jìn)行烘干;
3)最終獲得支撐層的厚度為100-500nm,通過電子束曝光或光刻技術(shù)制備等間距的溝槽,每一個溝槽寬度在2-5微米;
4)挑選微納晶體寬度在40-2000nm的一維微納材料,采用機(jī)械探針移動的方法,將微納晶體移動到溝槽的正上方,使微納晶體橫跨溝道寬度方向擺放;
5)采用金片貼膜電極法制備源漏電極。
6.如權(quán)利要求5所述的穩(wěn)定的以氣體為絕緣層的納米線場效應(yīng)晶體管的制備方法,其特征在于:所述步驟1)中,溶劑不能侵蝕襯底,有機(jī)絕緣材料為PMMA、AZ1505或MOR3B,溶劑為丙酮、茴香醚、四氫呋喃或二甲基甲酰胺。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





