[發明專利]一種β敷貼器表面吸收劑量率校準裝置及方法

有效

• 申請號: 201610231717.6
• 申請日: 2016-04-14
• 公開（公告）號: CN107297024B
• 公開（公告）日: 2019-12-24
• 發明（設計）人: 陳立;張慶利;韋應靖;唐智輝;商潔;以恒冠
• 申請（專利權）人: 中國輻射防護研究院;清華大學
• 主分類號: A61N5/00
• 分類號: A61N5/00
• 代理公司: 11311 北京天悅專利代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 田明;任曉航

1.一種β敷貼器表面吸收劑量率校準裝置，其特征在于：

所述校準裝置包括底座、β敷貼器定位架和β外推電離室；所述β敷貼器定位架和β外推電離室固定在所述底座上；

β敷貼器安裝在所述β敷貼器定位架上，然后對準所述β外推電離室，利用β外推電離室測量并校準敷貼器表面劑量率；

所述β敷貼器定位架包括軸向旋鈕、徑向旋鈕、緊固螺帽、軸向旋進軸、軸承和源托，所述軸向旋鈕、緊固螺帽、軸承和源托自遠離β外推電離室的位置到靠近所述β外推電離室的位置順序套裝在所述軸向旋進軸上；

所述徑向旋鈕可調節源托與β外推電離室的入射窗之間的徑向距離，該徑向距離可由徑向旋鈕下方的徑向旋進刻度尺讀出；

所述軸承可帶動源托旋轉，旋轉過程中源托與β外推電離室的入射窗之間的距離不變；軸承上帶有角度刻度標記，以記錄源托的旋轉角度。

2.如權利要求1所述的β敷貼器表面吸收劑量率校準裝置，其特征在于：

所述β外推電離室通過電離室支撐柱固定在底座上，所述電離室支撐柱能夠支撐β外推電離室和調節β外推電離室高度。

3.如權利要求2所述的β敷貼器表面吸收劑量率校準裝置，其特征在于：

所述軸向旋鈕帶動軸向旋進軸，調節源托與β外推電離室的入射窗之間的軸向距離。

4.如權利要求3所述的β敷貼器表面吸收劑量率校準裝置，其特征在于：

當源托與β外推電離室的入射窗之間的軸向距離調節好后，鎖死所述緊固螺帽，可記憶該軸向距離。

5.如權利要求2所述的β敷貼器表面吸收劑量率校準裝置，其特征在于：

所述源托可從β敷貼器定位架中拆卸，并用于固定待校準的β敷貼器，所述源托帶有3個互成120°的緊固螺釘；源托凹槽的直徑和深度根據待校準的β敷貼器加工。

6.一種使用如權利要求1-5任意一項所述校準裝置的β敷貼器表面吸收劑量率校準方法，其特征在于所述方法包括如下步驟：

1)根據待校準的β敷貼器尺寸參數，選擇β外推電離室；

2)使用電離室支撐柱將β外推電離室安裝在底座上，并保證源托的中軸線和β外推電離室收集極的中軸線在同一水平面上；

3)調節徑向旋鈕，使徑向旋進刻度尺上下兩個零刻度對齊；

4)調節軸向旋鈕，從而調節源托前表面與β外推電離室之間的距離；

5)鎖死緊固螺帽，記憶此時源托的軸向位置；

6)調節軸向旋鈕，使得有足夠的空間取下源托；

7)將β敷貼器安裝在源托上，再將源托安裝在軸承上；

8)調節軸向旋鈕至緊固螺帽記憶的位置；

9)利用β外推電離室測量敷貼器表面劑量率。

7.一種使用如權利要求6所述方法的β敷貼器表面均勻性測量方法，其特征在于所述測量方法在步驟9)后進一步包括如下步驟：

10)調節徑向旋鈕，使徑向旋進刻度尺的上下刻度相差7mm，測量以點A為圓心的小源的表面劑量率；

11)旋轉軸承，分別旋轉90°、180°和270°，并測量記錄以點B、C、D為圓心的小源的表面劑量率。