[發明專利]包括用于沉浸光刻裝置的真空清除的環境系統

有效

• 申請號: 201610221854.1
• 申請日: 2004-03-29
• 公開（公告）號: CN105700301B
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發明（設計）人: 安德魯·J·黑茲爾頓;邁克爾·瑟高
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 秦晨

本發明涉及包括用于沉浸光刻裝置的真空清除的環境系統。一種用于控制光學組件(16)與晶圓(30)之間間隙(246)中環境的環境系統(26)包括流體屏障(254)和沉浸流體系統(252)。流體屏障(254)位于晶圓(30)附近。沉浸流體系統(252)輸送充滿間隙(246)的沉浸流體(248)。沉浸流體系統(252)收集直接位于流體屏障(254)與晶圓(30)之間的沉浸流體(248)。流體屏障(254)可以包括位于晶圓(30)附近的清除入口(286)，并且沉浸流體系統(252)可以包括與清除入口(286)流體連通的低壓源(392A)。流體屏障(254)限制沉浸流體(248)的任何蒸汽(249)并且防止它干擾測量系統(22)。另外，環境系統(26)可以包括在流體屏障(254)與晶圓(30)之間引導軸承流體(290C)以相對于晶圓(30)支撐流體屏障(254)的軸承流體源(290B)。

本分案申請是基于申請號為200480009675.7，申請日為2004年3月29日，發明名稱為“包括用于沉浸光刻裝置的真空清除的環境系統”的中國專利申請的分案申請。更具體說，本分案申請是基于申請號為201310339659.5，申請日為2004年3月29日，發明名稱為“包括用于沉浸光刻裝置的真空清除的環境系統”的分案申請的再次分案申請。

相關申請

本申請要求2003年4月10日提交、名稱為“VACUUM RING SYSTEM AND WICK RINGSYSTEM FOR IMMERSION LITHOGRAPHY METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING THERMALDISTORION IN ELEMENTS OF A LITHOGRAPHY SYSTEM(用于控制光刻系統組件中熱變形的沉浸光刻方法和設備的真空環形系統和油繩環形系統)”的臨時申請序列號60/462,112和2003年7月1日提交、名稱為“FLUID CONTROL SYSTEM FOR IMMERSION LITHOGRAPHY TOOL(沉浸光刻工具的流體控制系統)”的臨時申請序列號60/484,476號的優先權益。只要允許，臨時申請序列號60/462,112和60/484,476的內容在此引用作為參考。

背景技術

在半導體處理過程中，光刻曝光裝置通常用于將圖像從標線片傳送到半導體晶圓上。典型的曝光裝置包括照明源，定位標線片的標線片載物臺組件，光學組件，定位半導體晶圓的晶圓載物臺組件，以及精確監控標線片和晶圓位置的測量系統。

沉浸光刻系統利用完全充滿光學組件與晶圓之間間隙的一層沉浸流體。晶圓在典型的光刻系統中快速移動并且它將期望將沉浸流體從間隙中帶走。從間隙中漏出的該沉浸流體可能干擾光刻系統其他組件的操作。例如，沉浸流體及其蒸汽可能干擾監控晶圓位置的測量系統。

發明內容

本發明涉及一種控制光學組件與由器件載物臺保持的器件之間的間隙中環境的環境系統。該環境系統包括流體屏障和沉浸流體系統。流體屏障位于器件附近并且環繞間隙。沉浸流體系統輸送充滿間隙的沉浸流體。

在一種實施方案中，沉浸流體系統收集直接位于流體屏障以及器件和器件載物臺中至少一個之間的沉浸流體。在該實施方案中，流體屏障包括位于器件附近的清除入口，并且沉浸流體系統包括與清除入口流體連通的低壓源。另外，流體屏障可以限制并包含沉浸流體以及來自沉浸流體的任何蒸汽于間隙附近的區域中。

在另一種實施方案中，環境系統包括在流體屏障與器件之間引導軸承流體以相對于器件支撐流體屏障的軸承流體源。在該實施方案中，流體屏障包括位于器件附近的軸承出口。此外，軸承出口與軸承流體源流體連通。

另外，環境系統可以包括使得間隙中的壓力近似等于流體屏障外部壓力的均壓器。在一種實施方案中，例如，均壓器是延伸通過流體屏障的通道。