[發(fā)明專利]基準(zhǔn)位置獲取方法、基準(zhǔn)位置獲取裝置、圖案描繪方法、圖案描繪裝置、以及記錄程序的記錄媒體有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610183193.8 | 申請日： | 2016-03-28 |
| 公開（公告）號： | CN106019851B | 公開（公告）日： | 2018-05-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 谷口和隆;中西健二 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會(huì)社思可林集團(tuán) |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F9/00;H05K3/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人： | 曹曉斐 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基準(zhǔn)位置 基準(zhǔn)位置圖像 圖案描繪裝置 獲取裝置 記錄程序 記錄媒體 圖案描繪 圖像 設(shè)計(jì)圖案 軸對稱 抽選 平行 垂直 圖案 | ||
【權(quán)利要求書】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
