[發明專利]一種微互連凸點制備方法及裝置有效
| 申請號: | 201610154091.3 | 申請日: | 2016-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN105655260B | 公開(公告)日: | 2018-03-13 |
| 發明(設計)人: | 董偉;趙寧;康世薇;魏宇婷;鐘毅;許富民 | 申請(專利權)人: | 大連理工大學 |
| 主分類號: | H01L21/48 | 分類號: | H01L21/48 |
| 代理公司: | 大連東方專利代理有限責任公司21212 | 代理人: | 李馨 |
| 地址: | 116024 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 互連 制備 方法 裝置 | ||
1.一種微互連凸點制備裝置,包括液滴噴射裝置和凸點形成裝置(3),所述液滴噴射裝置包括用于液滴噴射的腔體(1)、設置在所述腔體(1)上部的坩堝(2)和與設置在所述坩堝(2)頂部的壓電陶瓷(22)相連的且深入所述坩堝(2)及其中熔體內部的傳動桿(23),所述坩堝(2)的底部設有中心孔,所述坩堝(2)底部還連有與所述中心孔相通的薄片(27),所述薄片(27)上設有噴射孔(271),所述坩堝(2)外側設有加熱帶(26),所述坩堝(2)頂部開有坩堝進氣口(24)和坩堝排氣口(25),所述腔體(1)一側開有腔體進氣口(14)和腔體排氣口(13),機械泵(11)與擴散泵(12)安裝在所述腔體(1)側部且與所述坩堝(2)及所述腔體(1)相連;
其特征在于:
所述坩堝(2)通過三維運動控制器(21)與所述腔體(1)上部相連,所述腔體中部兩側還設有維持腔體(1)溫度的腔體溫度控制器(15);
所述傳動桿(23)底部的直徑小于所述中心孔的直徑,所述噴射孔(271)全部位于所述傳動桿(23)底部的正下方;
所述凸點形成裝置(3)包括用于承接所述液滴噴射裝置噴射出的液滴(4)的基板(32)和用于放置所述基板(32)且對所述基板(32)施加超聲振動的基板承載部;
所述噴射孔(271)與所述基板(32)之間的垂直距離D與所述基板(32)的溫度T之間滿足以下關系,T≥100+(D-5)×5。
2.根據權利要求1所述的微互連凸點制備裝置,其特征在于:當所述基板承載部為基板放置平臺(31)時,所述凸點形成裝置(3)置于所述腔體(1)底部,工作時,所述機械泵(11)與所述擴散泵(12)對所述腔體(1)和所述坩堝(2)抽真空;
當所述基板承載部為傳送帶(31’)時,所述傳送帶(31’)位于所述腔體(1)下方,所述腔體(1)下部無底;或者將所述腔體(1)下部兩側側壁開設對稱的可供所述傳送帶(31’)穿過的開口(17),所述坩堝(2)與所述傳送帶(31’)之間還設有保護氣體噴射裝置(16),工作時,所述機械泵(11)與所述擴散泵(12)僅對所述坩堝(2)抽真空。
3.根據權利要求1所述的微互連凸點制備裝置,其特征在于:所述坩堝(2)內置有熱電偶,所述坩堝(2)用于盛放釬料合金原料,所述噴射孔(271)的直徑范圍為0.01mm-0.5mm。
4.根據權利要求1所述的微互連凸點制備裝置,其特征在于:所述基板(32)上制作有金屬焊盤陣列圖形,金屬焊盤的直徑小于所述噴射孔(271)的直徑。
5.根據權利要求4所述的微互連凸點制備裝置,其特征在于:所述噴射孔(271)為單孔、單列孔或與金屬焊盤陣列圖形相同的全陣列孔。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





