[發(fā)明專利]定量X射線分析-基體厚度校正有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610119027.1 | 申請日： | 2016-03-03 |
| 公開（公告）號： | CN105937890B | 公開（公告）日： | 2018-12-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 查拉蘭波斯·扎爾卡達(dá)斯;亞歷山大·哈爾陳科;彼得羅內(nèi)拉·埃米倫蒂安娜·赫格曼;米倫·加特什基;瓦爾瑟如斯·凡丹霍根霍夫;迪克·林凱珀 | 申請（專利權(quán)）人： | 馬爾文帕納科公司 |
| 主分類號： | G01B15/02 | 分類號： | G01B15/02;G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京安信方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人： | 胡秋玲;鄭霞 |
| 地址： | 荷蘭阿*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 定量 射線 分析 基體 厚度 校正 | ||
【說明書】：
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