[發(fā)明專利]導(dǎo)線架有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610116809.X | 申請(qǐng)日: | 2016-03-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107154392B | 公開(公告)日: | 2019-11-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 方雅貞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 順德工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/495 | 分類號(hào): | H01L23/495 |
| 代理公司: | 11127 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 郭曉宇<國際申請(qǐng)>=<國際公布>=<進(jìn)入 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;TW |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)線 | ||
1.一種導(dǎo)線架,其特征在于,包含:
一金屬基底;
一鍍銀層,其形成在該金屬基底上;及
一氧化銀層,其形成在該鍍銀層上,且該氧化銀層的厚度為1.3納米以上2.5納米以下,且該氧化銀層的表面位能介于55mJ/m2至80mJ/m2。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)線架,其特征在于,該氧化銀層的厚度為1.8納米以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的導(dǎo)線架,其特征在于,該氧化銀層的厚度為2納米以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)線架,其特征在于,該鍍銀層的厚度為100納米以上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的導(dǎo)線架,其特征在于,該鍍銀層的厚度為3.5微米以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)線架,其特征在于,該金屬基底的厚度為80微米以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)線架,其特征在于,該氧化銀層的外表面上更形成有一防銀膠擴(kuò)散層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)線架,其特征在于,該金屬基底與該鍍銀層之間更形成有一粗化層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的導(dǎo)線架,其特征在于,該粗化層為鍍銅層或鍍鎳層。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)線架,其特征在于,該氧化銀層的表面含氧量介于20%至70%。
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