[發(fā)明專利]一種檢測喜樹堿分子印跡傳感器的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610087750.6
• 申請日: 2016-02-17
• 公開（公告）號: CN105628778B
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李慧芝;翟玉博;趙淑英
• 申請（專利權(quán)）人: 濟(jì)南大學(xué)
• 主分類號: G01N27/48
• 分類號: G01N27/48
• 代理公司: 濟(jì)南譽(yù)豐專利代理事務(wù)所(普通合伙企業(yè))37240
• 代理人: 李茜

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及的是一種分子印跡傳感器的制備方法及快速檢測應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種檢測喜樹堿分子印跡傳感器的制備方法，具體是基于分子印跡特異性識別作用，用于檢測藥品、生物樣品中的喜樹堿。

背景技術(shù)

喜樹堿是一種植物抗癌藥物，從中國中南、西南分布的喜樹中提取得到。1976年中國化學(xué)家高怡生等合成消旋喜樹堿成功。喜樹堿對腸胃道和頭頸部癌等有較好的療效，但對少數(shù)病人有尿血的副作用。10-羥基喜樹堿的抗癌活性超過喜樹堿，對肝癌和頭頸部癌也有明顯療效 ，而且副作用較少。喜樹堿一般從喜樹的根、莖、皮和種子中提取得到。但是由于喜樹中除了喜樹堿以外還含有其它多種組分，導(dǎo)致喜樹堿提取分離、測定的困難，因此，找到一種選擇性好、靈敏度高、操作簡便使用的檢測喜樹堿的方法十分重要。傳統(tǒng)檢測喜樹堿的方法主要有高效液相色譜、液相色譜-質(zhì)譜法、熒光光度法等，色譜法的準(zhǔn)確度受到一定限制、而且儀器比較貴需要專業(yè)人員操作，也限制了其應(yīng)用。熒光光法檢測干擾的因素比較多，準(zhǔn)確度難以保證，費(fèi)時(shí)。

分子印跡技術(shù)是當(dāng)前開發(fā)具有分子識別功能的高選擇性材料的主要方法之一，它是通過在模板分子周圍形成一個(gè)高度交聯(lián)的剛性高分子，除去模板分子后在分子印跡聚合物的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)中留下具有結(jié)合能力的識別位點(diǎn)，對模板分子表現(xiàn)出高選擇識別性能的一種技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)以其構(gòu)效預(yù)定性和特異識別性越來越受到人們的關(guān)注，已經(jīng)成功用于固相萃取或微固相萃取，親和色譜或毛細(xì)管電泳及傳感器等領(lǐng)域。

依據(jù)此技術(shù)制備的分子印跡傳感器，應(yīng)用于藥物分析、環(huán)境保護(hù)及生命科學(xué)研究中起著十分重要的作用。將功能分子以適當(dāng)方式修飾到電極上，制備選擇性好、靈敏度高、有一定使用壽命可再生的電化學(xué)傳感器成為分析科學(xué)工作者努力探索的課題。但是傳統(tǒng)的印跡方法所制備的印跡膜厚度難以控制，高交聯(lián)度使得電子傳遞速度和響應(yīng)慢、檢測下限高而且再生和可逆性差，影響分子印跡技術(shù)在電化學(xué)傳感器中的應(yīng)用。因此，建立一種靈敏、快速、簡便、特異性高、重復(fù)性好經(jīng)濟(jì)使用的檢測方法，對研究人員、生產(chǎn)企業(yè)、質(zhì)控人員、進(jìn)出口商檢、政府管理部門等的迫切需要的，對食品、藥品、環(huán)境安全中的喜樹堿含量準(zhǔn)確定量測定十分必要，對于喜樹堿生產(chǎn)和藥理研究也具有重要的意義。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是將分子印跡與電化學(xué)傳感器相結(jié)合，提供了一種檢測喜樹堿分子印跡傳感器的制備方法，主要是以喜樹堿為模板，在玻碳電極表面通過γ―甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、石墨烯及納米金粒子之間的電化學(xué)作用而制備的分子印跡傳感器。

儀器與試劑

CHI660B電化學(xué)工作站（上海辰華儀器公司），實(shí)驗(yàn)采用三電極體系：鉑絲電極為輔助電極，Ag/AgCl為參比電極（SCE），玻碳電極（GCE）為工作電極；KQ-250E型超聲波清洗器（坤峰超聲儀器有限公司）。

石墨烯；γ―甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、無水乙醇；三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，N,N-二甲基甲酰胺（DMF）；氯金酸；喜樹堿；丙烯酸；偶氮二異庚腈，磷酸緩沖溶液。

本發(fā)明的目的通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)。

一種檢測喜樹堿分子印跡傳感器的制備方法，其特征在于，該方法具有以下工藝步驟：

（1）玻碳電極預(yù)處理：將玻碳電極依次用0.1μmAl₂O₃粉末進(jìn)行表面拋光，然后用高純水超聲清洗，用氮?dú)獯蹈?，將玻碳電極放入含γ―甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷質(zhì)量百分濃度為10~15%的乙醇溶液中，溫度升至45±2℃，浸泡10~12 h，取出用無水乙醇充分洗滌，用氮?dú)獯蹈?，即得預(yù)處理玻碳電極；

（2）氧化石墨的制備：在反應(yīng)器中，按如下組成質(zhì)量百分濃度加入，濃硫酸：50~60%，石墨烯：3~8%，高錳酸鉀：1.0~5%，超聲分散20~30min，再加入32~42%去離子水，各組分含量之和為百分之百，溫度升至65±2℃攪拌反應(yīng)8 ~10 h，冷卻至室溫，過濾，用去離子水反復(fù)洗滌至濾液為中性，真空干燥，得到氧化石墨烯；

（3）印跡溶膠的制備：在反應(yīng)器中，按如下組成質(zhì)量百分濃度加入，N,N-二甲基甲酰胺：70~80%，氧化石墨烯：2~5%，丙烯酸：8~18%，三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯：4~12%，偶氮二異庚腈：0.5~2.0%，氯金酸：0.1~1.0%，攪拌30~40 min，再加入喜樹堿：0.1~1.0%，各組分含量之和為百分之百，溫度升至60±2℃攪拌反應(yīng)4~6 h，即得印跡溶膠；