[發明專利]吸著裝置、吸著系統及其應用在審
| 申請號: | 201610083006.9 | 申請日: | 2016-02-05 |
| 公開(公告)號: | CN107043021A | 公開(公告)日: | 2017-08-15 |
| 發明(設計)人: | 李志偉;蔡祥裕;吳聰偉 | 申請(專利權)人: | 南京瀚宇彩欣科技有限責任公司;瀚宇彩晶股份有限公司 |
| 主分類號: | B65G49/06 | 分類號: | B65G49/06 |
| 代理公司: | 北京中譽威圣知識產權代理有限公司11279 | 代理人: | 王正茂,叢芳 |
| 地址: | 210038 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸著 裝置 系統 及其 應用 | ||
1.一種吸著裝置,其特征在于,所述吸著裝置包含:
多個第一吸著單元,其中所述多個第一吸著單元間隔設置,并定義出至少一個間隔區域;以及
多個第二吸著單元,其設置于所述多個第一吸著單元的至少一個上,并延伸至所述至少一個間隔區域的至少一個中。
2.一種吸著裝置,其特征在于,所述吸著裝置包含:
多個第一吸著單元,其中所述多個第一吸著單元間隔設置,并定義出至少一個間隔區域;
多個第二吸著單元,其設置于所述多個第一吸著單元的至少一個上,并延伸至所述至少一個間隔區域的至少一個中;以及
多個靜電盤,其分別設于所述間隔區域中,且每個所述靜電盤具有對應所述多個第二吸著單元的多個凹陷部,而使每個所述第二吸著單元能夠移動地通過所對應的所述多個凹陷部。
3.如權利要求1或2所述的吸著裝置,其特征在于,所述多個第二吸著單元其中至少兩個互相平行。
4.如權利要求1所述的吸著裝置,其特征在于,所述吸著裝置還包含至少一個連接件,且所述至少一個連接件與所述第一吸著單元連接。
5.如權利要求1或2所述的吸著裝置,其特征在于,所述多個第二吸著單元中至少一個垂直于所述多個第一吸著單元。
6.如權利要求1或2所述的吸著裝置,其特征在于,所述多個第一吸著單元互相平行。
7.如權利要求1或2所述的吸著裝置,其特征在于,所述多個第一吸著 單元及所述多個第二吸著單元的至少一個具有連接元件及多個設置于所述連接元件上的吸著元件。
8.如權利要求2所述的吸著裝置,其特征在于,所述吸著裝置還包含至少一個連接件,且所述至少一個連接件與所述第一吸著單元連接。
9.一種吸著裝置,其特征在于,所述吸著裝置包含:
多個第一吸著單元,其中所述多個第一吸著單元分開設置;
多個第二吸著單元,所述多個第二吸著單元的至少一個連接所述多個第一吸著單元的至少兩個;以及
多個靜電盤,其分別設于所述多個第一吸著單元及所述多個第二吸著單元之間,而使每個所述第一吸著單元及每個所述第二吸著單元能夠移動地通過所述多個靜電盤。
10.如權利要求9所述的吸著裝置,其特征在于,所述多個第一吸著單元互相平行。
11.一種吸著系統,設置于本體上,其特征在于,所述吸著系統包含:
動作機構;以及
如權利要求4中所述的吸著裝置,其中所述吸著裝置的所述連接件連接所述動作機構。
12.一種吸著系統,設置于本體上,其特征在于,所述吸著系統包含:
動作機構;以及
如權利要求8所述的吸著裝置,其中所述連接件連接所述動作機構,且所述多個靜電盤設置于所述本體的底部上。
13.一種貼合基板的方法,其特征在于,所述貼合基板的方法包含:
提供第一基板及第二基板;
提供如權利要求11所述的吸著系統;
借由所述吸著系統的所述吸著裝置吸著所述第一基板;
利用所述動作機構上提所述吸著裝置;
移動所述吸著裝置,以對準所述第一基板與所述第二基板;以及
下移所述吸著裝置,以貼合所述第一基板及所述第二基板。
14.一種貼合基板的方法,其特征在于,所述貼合基板的方法包含:
提供第一基板及第二基板;
提供如權利要求12所述的吸著系統;
借由所述多個第一吸著單元及所述多個第二吸著單元吸著所述第一基板;
以所述多個第一吸著單元及所述多個第二吸著單元上提所述第一基板,當所述多個第一吸著單元及所述多個第二吸著單元與所述多個靜電盤共平面時,以所述多個靜電盤吸著所述第一基板,且所述多個第一吸著單元及所述多個第二吸著單元能夠移動地通過所述多個靜電盤,并移動至所述本體的容置部中;
移動所述多個靜電盤,以對準所述第一基板與所述第二基板;以及
下移所述多個靜電盤,以貼合所述第一基板及所述第二基板。
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