[發明專利]一種表面增強拉曼散射基底及其生產方法和應用

在審

• 申請號: 201610072272.1
• 申請日: 2016-02-01
• 公開（公告）號: CN105543935A
• 公開（公告）日: 2016-05-04
• 發明（設計）人: 姚愛華;徐玲;胥巖;王德平
• 申請（專利權）人: 同濟大學
• 主分類號: C25D11/26
• 分類號: C25D11/26;C23F3/06;G01N21/65
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 吳林松;孔翰

1.一種表面增強拉曼散射基底，其特征在于：包括：金屬層和附在所述金屬層表面的陶瓷層， 所述金屬層為鈦片，所述陶瓷層為TiN納米多孔陣列。

2.根據權利要求1所述的表面增強拉曼散射基底，其特征在于：所述鈦片的厚度為0.5‐10mm； 和/或，所述TiN納米多孔陣列的厚度為2‐3μm；和/或，所述TiN納米多孔陣列包括外層和內 層，所述外層的網格孔徑為130‐150nm，所述內層的管道直徑為100‐120nm。

3.一種如權利要求1至2中任一所述的表面增強拉曼散射基底的生產方法，其特征在于：包 括如下步驟：

(1)、將鈦片清洗并烘干后在化學拋光液中拋光，得到拋光后的鈦片；

(2)、以所述拋光后的鈦片作為陽極，以非鈦金屬片作為陰極，在有機電解液中進行多次 陽極氧化，得到表面附有TiO₂納米多孔陣列的鈦片；

(3)、將所述表面附有TiO₂納米多孔陣列的鈦片在氨氣中進行原位氮化處理，得到表面增 強拉曼散射基底。

4.根據權利要求3所述的生產方法，其特征在于：在步驟(1)中，所述清洗為將所述鈦片依 次在無水乙醇、丙酮和去離子水中超聲清洗；和/或，所述化學拋光液為HF、HNO₃和H₂O的混 合物，HF、HNO₃和H₂O的體積比為1:4:5。

5.根據權利要求3所述的表面增強拉曼散射基底的生產方法，其特征在于：在步驟(2)中， 所述非鈦金屬片為鉑片；和/或，所述有機電解液為NH₄F的乙二醇溶液，NH₄F占乙二醇的重量 百分比為0.5±0.5％。

6.根據權利要求3所述的表面增強拉曼散射基底的生產方法，其特征在于：在步驟(2)中， 進行陽極氧化時的電壓為60V，每次陽極氧化的時間為30‐60min，前一次陽極氧化完畢后將陽 極在去離子水中清洗并干燥，然后進行下一次陽極氧化。

7.根據權利要求3所述的表面增強拉曼散射基底的生產方法，其特征在于：在步驟(3)中， 原位氮化處理包括如下步驟：將所述表面附有TiO₂納米多孔陣列的鈦片在流速為400ml/min的 氨氣氣流中以1±0.5℃/min的升溫速度從室溫升高至700‐900℃后，保溫2‐5h。

8.一種如權利要求1至2中任一所述的表面增強拉曼散射基底在檢測有機物中的應用。

9.根據權利要求8所述的應用，其特征在于：所述有機物為羅丹明6G、羅丹明B、亞甲基藍 或曲利本藍。