[發(fā)明專利]像素結(jié)構(gòu)及其制作方法、陣列基板及顯示裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610064421.X
• 申請日: 2016-01-29
• 公開（公告）號: CN105487311A
• 公開（公告）日: 2016-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊海剛;樸正淏;李哲;胡競勇
• 申請（專利權(quán)）人: 重慶京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1343
• 分類號: G02F1/1343
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 李相雨

1.一種像素結(jié)構(gòu)，包括襯底基板以及設(shè)置在所述襯底基板上的第 一透明電極層和第二透明電極層，所述第二透明電極層包括多個(gè)條狀 電極，其特征在于，所述第一透明電極層包括至少一個(gè)狹縫，且每一 個(gè)所述狹縫至少部分位于所述條狀電極在所述襯底基板的投影內(nèi)。

2.如權(quán)利要求1所述的像素結(jié)構(gòu)，其特征在于，每一個(gè)所述狹縫 全部位于所述條狀電極在所述襯底基板的投影內(nèi)。

3.如權(quán)利要求2所述的像素結(jié)構(gòu)，其特征在于，對于每一個(gè)所述 狹縫，其寬度與其相對的條狀電極的寬度之比為10％～100％。

4.如權(quán)利要求1-3任一所述的像素結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一 透明電極層中所述狹縫的數(shù)量與所述第二透明電極層中所述條狀電極 的數(shù)量之比為1:50～1:2。

5.一種陣列基板，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-4任一所述的 像素結(jié)構(gòu)。

6.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求5所述的陣列基 板。

7.一種像素結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上形成第一透明電極層和第二透明電極層，其中，所 述第二透明電極層包括多個(gè)條狀電極，所述第一透明電極層包括至少 一個(gè)狹縫，且每一個(gè)所述狹縫至少部分位于所述條狀電極在所述襯底 基板的投影內(nèi)。

8.如權(quán)利要求7所述的制作方法，其特征在于，每一個(gè)所述狹縫 全部位于所述條狀電極在所述襯底基板的投影內(nèi)。

9.如權(quán)利要求8所述的制作方法，其特征在于，對于每一個(gè)所述 狹縫，其寬度與其相對的條狀電極的寬度之比為10％～100％。

10.如權(quán)利要求7-9任一所述的制作方法，其特征在于，所述第一 透明電極層中所述狹縫的數(shù)量與所述第二透明電極層中所述條狀電極 的數(shù)量之比為1:50～1:2。