[發(fā)明專利]彩膜基板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610061279.3
• 申請(qǐng)日: 2016-01-28
• 公開（公告）號(hào): CN105467667B
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 熊雄;劉榮鋮;劉玉東;趙劍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1335
• 分類號(hào): G02F1/1335;G02F1/1343
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 羅瑞芝;陳源

1.一種彩膜基板，包括彩膜層和黑矩陣，所述彩膜層包括依次循環(huán)排列的多個(gè)不同顏色的子彩膜層，其特征在于，所述黑矩陣設(shè)置于相鄰的所述子彩膜層之間的間隙區(qū)、且與相鄰的所述子彩膜層無重疊相接，所述黑矩陣采用含有離子的材料形成，所述黑矩陣的下方設(shè)置有工藝電極層，形成所述黑矩陣的材料在電場(chǎng)作用下能在所述工藝電極層的上方產(chǎn)生沉積，所述黑矩陣與所述工藝電極層的厚度之和等于所述子彩膜層的厚度，所述黑矩陣的寬度和所述工藝電極層的寬度分別等于相鄰的所述子彩膜層之間的間隙區(qū)的寬度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩陣的厚度小于所述子彩膜層的厚度，所述黑矩陣的厚度范圍為所述子彩膜層的厚度的3/4-5/6。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩陣材料包括樹脂、著色劑、固化劑、助溶劑和溶劑，其中：樹脂包括丙烯酸樹脂或聚酯樹脂，著色劑包括炭黑或燈黑，固化劑包括三聚氰胺，助溶劑包括醇類材料或醚醇類材料，溶劑包括去離子水。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述工藝電極層采用導(dǎo)電材料形成，所述導(dǎo)電材料包括ITO。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板還包括在所述黑矩陣和所述子彩膜層的上方設(shè)置的公共電極層或隔墊物。

6.一種彩膜基板的制備方法，包括形成彩膜層和黑矩陣的圖形的步驟，其特征在于，包括步驟：

形成包括不同顏色的子彩膜層的圖形；

在相鄰的所述子彩膜層之間的間隙區(qū)形成工藝電極層；

在所述工藝電極層的上方形成包括黑矩陣的圖形，所述黑矩陣與所述工藝電極層的厚度之和等于所述子彩膜層的厚度，所述黑矩陣的寬度和所述工藝電極層的寬度分別等于相鄰的所述子彩膜層之間的間隙區(qū)的寬度；

其中，在所述工藝電極層上方形成包括黑矩陣的圖形的步驟包括：在所述工藝電極層及所述子彩膜層的上方涂覆黑矩陣材料，向所述工藝電極層通電，采用電沉積方式使得相鄰的所述子彩膜層之間的間隙區(qū)形成所述黑矩陣的圖形，所述黑矩陣與相鄰的所述子彩膜層無重疊相接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的彩膜基板的制備方法，其特征在于，所述黑矩陣材料包括樹脂、著色劑、固化劑、助溶劑和溶劑，其中：樹脂包括丙烯酸樹脂或聚酯樹脂，著色劑包括炭黑或燈黑，固化劑包括三聚氰胺，助溶劑包括醇類材料或醚醇類材料，溶劑包括去離子水。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的彩膜基板的制備方法，其特征在于，在相鄰的所述子彩膜層之間的間隙區(qū)形成工藝電極層的步驟包括：形成包括工藝電極層的圖形的光刻膠層，在所述光刻膠層的上方形成工藝電極膜層，采用剝離工藝在相鄰的所述子彩膜層之間的間隙區(qū)形成所述工藝電極層。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的彩膜基板的制備方法，其特征在于，所述工藝電極層采用導(dǎo)電材料形成，所述導(dǎo)電材料包括ITO。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的彩膜基板的制備方法，其特征在于，所述黑矩陣的厚度小于所述子彩膜層的厚度，所述黑矩陣的厚度范圍為所述子彩膜層的厚度的3/4-5/6。

11.根據(jù)權(quán)利要求6-10任一項(xiàng)所述的彩膜基板的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括在所述黑矩陣和所述子彩膜層的上方形成包括公共電極層的圖形的步驟，或形成隔墊物的步驟。

12.一種顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的彩膜基板。

13.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求12所述的顯示面板。