[發(fā)明專利]曝光裝置、曝光方法、及元件制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610055729.8
• 申請(qǐng)日: 2008-07-16
• 公開（公告）號(hào): CN105652603B
• 公開（公告）日: 2018-07-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 荒井大
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社尼康
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;H01L21/027;G01B11/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 陳偉

1.一種曝光裝置，用于用照明光曝光基板，其特征在于，其具備：

投影光學(xué)系統(tǒng)，用于將該照明光投影到排列于該投影光學(xué)系統(tǒng)的下方的基板上；

被配置成支撐該投影光學(xué)系統(tǒng)的框架結(jié)構(gòu)；

各自具有反射型格子部的多個(gè)格子構(gòu)件，該多個(gè)格子構(gòu)件的每個(gè)格子構(gòu)件被該框架結(jié)構(gòu)支撐以使得該格子部與正交于該投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸的既定面大致平行地被排列；

載臺(tái)，其可在該格子構(gòu)件的下方移動(dòng)，且被配置成保持該基板；以及編碼器系統(tǒng)，具有被設(shè)置于該載臺(tái)的多個(gè)讀頭，該多個(gè)讀頭的每個(gè)讀頭被配置成從該格子部的下方向該格子部上照射光束，以便獲取該載臺(tái)的位置資訊；

驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其具有被配置成驅(qū)動(dòng)該載臺(tái)的馬達(dá)；以及

控制系統(tǒng)，其被配置成基于所獲取的位置資訊控制該驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，

其中該讀頭的每個(gè)讀頭被設(shè)置于該載臺(tái)以便關(guān)于平行于該既定面的方向被排列在該載臺(tái)的上面的外側(cè)，

并且其中該格子構(gòu)件被該框架結(jié)構(gòu)支撐以便在平行于該既定面的方向可移動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于其中,

該格子構(gòu)件的每個(gè)格子構(gòu)件具有覆蓋該格子部的平板狀保護(hù)玻璃，光束經(jīng)由該平板狀保護(hù)玻璃照射到該格子部上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于其中，

還具備嘴單元，其被設(shè)置在該投影光學(xué)系統(tǒng)的下端側(cè)，具有供該照明光通過的開口，并且被配置成用液體在該投影光學(xué)系統(tǒng)與被載臺(tái)保持在與該投影光學(xué)系統(tǒng)相反側(cè)位置的該基板的一部分之間形成液浸區(qū)域，

其中該格子構(gòu)件被排列在該嘴單元的外側(cè)，并且

其中該曝光裝置被配置成經(jīng)由該投影光學(xué)系統(tǒng)和該液浸區(qū)域的液體用該照明光曝光該基板。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其特征在于其中，

還具備嘴單元，其被設(shè)置在該投影光學(xué)系統(tǒng)的下端側(cè)，具有供該照明光通過的開口，并且被配置成用液體在該投影光學(xué)系統(tǒng)與被載臺(tái)保持在與該投影光學(xué)系統(tǒng)相反側(cè)位置的該基板的一部分之間形成液浸區(qū)域，

其中該格子構(gòu)件被排列在該嘴單元的外側(cè)，并且

其中該曝光裝置被配置成經(jīng)由該投影光學(xué)系統(tǒng)和該液浸區(qū)域的液體用該照明光曝光該基板。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于其中，

該嘴單元在該嘴單元的下面?zhèn)染哂行纬捎性撻_口的平坦面。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其特征在于其中，

該嘴單元在該嘴單元的下面?zhèn)染哂行纬捎性撻_口的平坦面。

7.根據(jù)權(quán)利要求3至6中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于其中，

該格子構(gòu)件包圍該嘴單元并且被排列以使得該格子部比該嘴單元的下面位置高。

8.根據(jù)權(quán)利要求3至6中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于其中，

該嘴單元在該嘴單元的下面?zhèn)染哂邪鼑撜彰鞴馑ㄟ^的該開口的回收口，并且

其中該嘴單元被排列成向該液浸區(qū)域供應(yīng)液體并且該回收口被排列成從該液浸區(qū)域回收液體。

9.根據(jù)權(quán)利要求3至6中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于其中，

還具備被配置成支撐該嘴單元、與該框架結(jié)構(gòu)不同的支撐構(gòu)件。

10.一種元件制造方法，其特征在于，包括：

使用權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的曝光裝置曝光基板；并且

將經(jīng)曝光的該基板顯影。