[發明專利]NiWP納米線及其氧化鋁模板水熱合成方法在審
| 申請號： | 201610047688.8 | 申請日： | 2016-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN105668532A | 公開（公告）日： | 2016-06-15 |
| 發明（設計）人： | 周闊;梁硯琴;楊賢金;崔振鐸;朱勝利;李朝陽 | 申請（專利權）人： | 天津大學 |
| 主分類號： | C01B25/08 | 分類號： | C01B25/08;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 天津創智天誠知識產權代理事務所(普通合伙) 12214 | 代理人： | 王秀奎 |
| 地址： | 300072*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | niwp 納米 及其 氧化鋁 模板 合成 方法 | ||
1.NiWP納米線，其特征在于，NiWP納米線具有棒狀形貌特征，直徑在100—120nm， 長度為1.2—1.5um由元素Ni、W和P組成，且表現為非晶態，按照下述步驟進行：
步驟1，將氧化鋁模板浸泡在SnCl2的水溶液中，以使SnCl2均勻分散在氧化鋁模板 中；
步驟2，將步驟1中浸泡過SnCl2的氧化鋁模板浸泡在PdCl2的水溶液中，以使PdCl2均勻分散在氧化鋁模板中；
步驟3，將經過步驟1和步驟2處理的氧化鋁模板轉移至由NiSO4·H2O、 NaWO4·H2O、NaH2PO2·H2O和檸檬酸鈉組成的混合水溶液中進行水熱反應，反應溫度為 70—90攝氏度，反應時間至少2小時，NiSO4·H2O濃度為10—15g/L、NaWO4·H2O濃度 為30-50g/L、NaH2PO2·H2O為20—25g/L、檸檬酸鈉濃度為40—50g/L；
步驟4，將經過步驟3水熱反應的氧化鋁模板置于氫氧化鈉水溶液中，以使氧化鋁模 板溶解，即得到NiWP納米線。
2.根據權利要求1所述的NiWP納米線，其特征在于，所述步驟1中，SnCl2濃度為 10—15g/L，浸泡時間至少為1min，優選1—5min。
3.根據權利要求1所述的NiWP納米線，其特征在于，所述步驟2中，PdCl2的濃 度為1—5g/L，浸泡時間至少為30s，優選30—80s。
4.根據權利要求1所述的NiWP納米線，其特征在于，所述步驟3中，反應溫度為 80—85攝氏度，反應時間為2—3小時；所述步驟3中，NiSO4·H2O濃度為15g/L、 NaWO4·H2O濃度為35-40g/L、NaH2PO2·H2O為22g/L、檸檬酸鈉濃度為40g/L。
5.根據權利要求1所述的NiWP納米線，其特征在于，所述步驟4中，所述氫氧化 鈉水溶中，氫氧化鈉的質量百分數為1—5wt％。
6.NiWP納米線的氧化鋁模板水熱合成方法，其特征在于，按照下述步驟進行：
步驟1，將氧化鋁模板浸泡在SnCl2的水溶液中，以使SnCl2均勻分散在氧化鋁模板 中；
步驟2，將步驟1中浸泡過SnCl2的氧化鋁模板浸泡在PdCl2的水溶液中，以使PdCl2均勻分散在氧化鋁模板中；
步驟3，將經過步驟1和步驟2處理的氧化鋁模板轉移至由NiSO4·H2O、 NaWO4·H2O、NaH2PO2·H2O和檸檬酸鈉組成的混合水溶液中進行水熱反應，反應溫度為 70—90攝氏度，反應時間至少2小時，NiSO4·H2O濃度為10—15g/L、NaWO4·H2O濃度 為30-50g/L、NaH2PO2·H2O為20—25g/L、檸檬酸鈉濃度為40—50g/L；
步驟4，將經過步驟3水熱反應的氧化鋁模板置于氫氧化鈉水溶液中，以使氧化鋁模 板溶解，即得到NiWP納米線。
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