[發明專利]銅選擇性蝕刻液和鈦選擇性蝕刻液

在審

• 申請號: 201610046399.6
• 申請日: 2016-01-25
• 公開（公告）號: CN105603425A
• 公開（公告）日: 2016-05-25
• 發明（設計）人: 江月華
• 申請（專利權）人: 熙騰電子科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23F1/14
• 分類號: C23F1/14;C23F1/38
• 代理公司: 上海領洋專利代理事務所(普通合伙) 31292
• 代理人: 羅曉鵬

1.一種銅選擇性蝕刻液，包括氧化劑和水，其特征在于還包括草酸鹽 和氨基羧酸，所述銅選擇性蝕刻液pH值為6.0～8.5；優選地，所述銅選擇性 蝕刻液由銅氧化液和銅螯合液組成，所述銅氧化液包括所述氧化劑和/或所 述水，所述銅螯合液包括所述草酸鹽、所述氨基羧酸和所述水。

2.如權利要求1所述的銅選擇性蝕刻液，其特征在于，所述氧化劑為 過硫酸鹽或過氧化氫，優選過氧化氫，所述氧化劑占所述銅選擇性蝕刻液總 重量的0.1～15％，優選0.2～10％，更優選0.5～5％，最優選1.5％；所述銅氧 化液與所述銅螯合液體積比為1:200～5:200。

3.如權利要求1所述的銅選擇性蝕刻液，其特征在于，所述草酸鹽為 草酸銨、草酸鈉和/或草酸鉀，所述草酸鹽占所述銅選擇性蝕刻液總重量的 0.02～7.5％，優選0.05～5.0％，更優選1.5～4％，最優選3.0％；所述氨基羧酸 為甘氨酸、丙氨酸、纈氨酸和/或異亮氨酸，優選甘氨酸，所述氨基羧酸占 所述銅選擇性蝕刻液總重量的0.1～25％，優選0.5～20％，更優選0.75～10％， 最優選5.0％。

4.如權利要求1所述的銅選擇性蝕刻液，其特征在于，所述銅螯合液 還含有表面活性劑和/或銅蝕刻液pH調整劑；所述表面活性劑優選非離子表 面活性劑聚氧丙烯聚氧乙烯醚；所述表面活性劑占所述銅選擇性蝕刻液總重 量的0.001～1％，優選0.01～0.5％；所述銅選擇性蝕刻液pH值為6.5～8.0，優 選7.0。

5.一種鈦選擇性蝕刻液，其包括過氧化氫和水，其特征在于還包括亞 磷酸螯合劑、銅防腐蝕劑和無機堿，所述鈦選擇性蝕刻液pH值為7～10；優 選地，所述鈦選擇性蝕刻液由鈦氧化液和鈦螯合液組成，所述鈦氧化液包括 所述過氧化氫和/或所述水，所述鈦螯合液包括所述亞磷酸螯合劑、所述銅 防腐蝕劑、所述無機堿和所述水。

6.如權利要求5所述的鈦選擇性蝕刻液，其特征在于，過氧化氫占所 述鈦選擇性蝕刻液總重量的10～35％，優選15～30％，更優選20～25％，最優 選24.5％；所述鈦氧化液與所述鈦螯合液體積比為1:10～10:1。

7.如權利要求5所述的鈦選擇性蝕刻液，其特征在于，所述亞磷酸螯 合劑為1-羥基乙烷-1,1'-二磷酸、1-羥基亞丙基-1,1'-二磷酸、1-羥基亞丁基 -1,1'-二磷酸、乙二胺(四亞甲基膦酸)和/或氨基三亞甲基膦酸，優選1-羥 基乙烷-1,1'-二磷酸和/或乙二胺(四亞甲基膦酸)；所述亞磷酸螯合劑占所 述鈦選擇性蝕刻液總重量的0.1～3％，優選0.2～1.5％，更優選0.5％。

8.如權利要求5所述的鈦選擇性蝕刻液，其特征在于，所述銅防腐蝕 劑選自苯并三唑類化合物、羥基羧酸和含氮雜環化合物中的一種或多種；所 述苯并三唑類化合物為苯并三唑、4-羧基苯并三唑、5-羧基苯并三唑、5-甲 基苯并三唑和/或5-氯苯并三唑；所述羥基羧酸為檸檬酸、異檸檬酸、酒石 酸和/或蘋果酸；所述含氮雜環化合物為腺嘌呤、鳥嘌呤、鳥嘌呤核苷、胞 嘧啶、胸腺嘧啶、尿嘧啶、喹哪啶酸、聯吡啶和/或鄰二氮雜菲；所述銅防 腐蝕劑優選苯并三唑和/或檸檬酸；所述銅防腐蝕劑占所述鈦選擇性蝕刻液 總重量的0.01～5％，優選0.05～2％，更優選0.08～1％，最優選0.1％。

9.如權利要求5所述的鈦選擇性蝕刻液，其特征在于，所述無機堿為 自氨、氫氧化鈉和/或氫氧化鉀，所述無機堿占所述鈦選擇性蝕刻液總重量 的0.1～12％，優選0.4～8％，更優選0.5～5％，最優選2％。

10.如權利要求5所述的鈦選擇性蝕刻液，其特征在于，所述鈦螯合液 還含有表面活性劑和/或鈦蝕刻液pH調整劑；所述表面活性劑優選非離子表 面活性劑聚氧丙烯聚氧乙烯醚；所述表面活性劑占所述鈦選擇性蝕刻液總重 量的0.001～1％，優選0.01～0.5％；所述鈦選擇性蝕刻液pH值為8～9.5，優 選8.5～9.2。