[發明專利]清洗裝置及其使用方法

有效

• 申請號: 201610035176.X
• 申請日: 2016-01-19
• 公開（公告）號: CN105629530B
• 公開（公告）日: 2020-01-24
• 發明（設計）人: 井楊坤
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13
• 代理公司: 11138 北京三高永信知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 鞠永善

1.一種清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置包括：噴出組件，所述噴出組件包括兩個結構件，

所述兩個結構件之間形成有間隙，所述間隙的大小能夠調節，清洗液能夠從所述間隙向待清洗結構的待清洗表面噴出，且所述清洗液的噴出方向與所述待清洗表面存在傾角；

所述清洗裝置還包括：第一控制組件、第二控制組件、檢測組件和兩個平行導軌，所述第一控制組件、所述第二控制組件均與所述檢測組件連接，所述待清洗結構位于所述兩個平行導軌之間，所述待清洗結構能夠沿所述兩個平行導軌的延伸方向運動，所述噴出組件設置在所述兩個平行導軌上；

所述第一控制組件與所述兩個結構件中的至少一個結構件連接，用于調節所述間隙的大小；

所述第二控制組件用于控制所述噴出組件在所述兩個平行導軌上沿所述兩個平行導軌的延伸方向運動，所述噴出組件的運動方向與所述待清洗結構的運動方向相反；

所述檢測組件用于檢測所述待清洗表面的微粒數量，在檢測到的微粒數量大于預設數量閾值時，將所述檢測到的微粒數量發送至所述第一控制組件；

所述第一控制組件用于根據所述檢測到的微粒數量，減小所述間隙，所述間隙的大小與所述檢測到的微粒數量成反比；

所述檢測組件還用于在檢測所述微粒數量的過程中，獲取所述檢測到的微粒數量對應的位置信息，將所述檢測到的微粒數量對應的位置信息發送至所述第二控制組件；

所述第二控制組件用于控制所述噴出組件在所述兩個平行導軌上運動，使得所述噴出組件噴出的清洗液噴出至所述位置信息對應的位置上。

2.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，

所述第一控制組件用于控制所述兩個結構件中的至少一個結構件移動，調節所述間隙的大小。

3.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述第一控制組件還用于控制所述噴出組件沿預設軸線轉動，改變所述清洗液的噴出方向。

4.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述兩個結構件均為塊狀結構，且所述兩個結構件相互靠近的面為相互平行的平面，所述相互平行的平面形成間隙。

5.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括：兩塊防濺板，

所述噴出組件位于所述兩塊防濺板之間，且所述兩塊防濺板分別位于在所述兩個結構件所在的兩側。

6.根據權利要求5所述的清洗裝置，其特征在于，所述噴出組件上噴出所述清洗液的位置為出液位置，所述兩個結構件中存在至少一個結構件靠近所述出液位置的一端為楔形結構，且所述楔形結構的尖端靠近所述出液位置。

7.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述兩個結構件中的至少一個結構件能夠發生彈性形變。

8.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述檢測組件為紅外攝像組件或電荷耦合器件CCD攝像組件。

9.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括：加壓組件，所述加壓組件用于向所述清洗液加壓。