[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610030780.3 | 申請(qǐng)日: | 2016-01-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106783838B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-05-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄒安莉;曾瑋豪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 新唐科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/02 | 分類號(hào): | H01L27/02;H01L21/762;H01L21/768 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 湯在彥 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種半導(dǎo)體裝置,其特征在于,包括:
一基板,該基板重?fù)诫s有一第一導(dǎo)電型的離子;
一第二導(dǎo)電型外延層,設(shè)于該基板上,其中該第二導(dǎo)電型外延層具有一第二導(dǎo)電型的離子,且該第一導(dǎo)電型的離子與該第二導(dǎo)電型的離子不同;
一第一導(dǎo)電型外延層,設(shè)于該第二導(dǎo)電型外延層上,其中該第一導(dǎo)電型外延層具有該第一導(dǎo)電型的離子;
一第二導(dǎo)電型埋藏層,設(shè)于該第二導(dǎo)電型外延層中,其中該第二導(dǎo)電型埋藏層重?fù)诫s有該第二導(dǎo)電型的離子;
一第一隔離溝槽、一第二隔離溝槽及一第三隔離溝槽,自該第一導(dǎo)電型外延層的一頂面延伸穿過(guò)該第二導(dǎo)電型外延層至該基板中,且該第一隔離溝槽與該第三隔離溝槽分別設(shè)于該第二隔離溝槽的相反側(cè),其中該第一隔離溝槽與該第二隔離溝槽之間的區(qū)域?yàn)橐坏谝桓綦x區(qū),該第二隔離溝槽與該第三隔離溝槽之間的區(qū)域?yàn)橐坏诙綦x區(qū);
一第一導(dǎo)電型第一重?fù)诫s區(qū),設(shè)于該第一隔離區(qū)中的該第二導(dǎo)電型外延層中,且位于該第二導(dǎo)電型埋藏層之下,其中該第一導(dǎo)電型第一重?fù)诫s區(qū)具有該第一導(dǎo)電型的離子,且位于該第一隔離區(qū)中的該第一導(dǎo)電型第一重?fù)诫s區(qū)與該第二導(dǎo)電型埋藏層是作為一齊納二極管;以及
一第二導(dǎo)電型第一重?fù)诫s區(qū),設(shè)于該第二隔離區(qū)中的該第一導(dǎo)電型外延層中,該第二導(dǎo)電型第一重?fù)诫s區(qū)具有該第二導(dǎo)電型的離子,其中位于該第二隔離區(qū)中的該第一導(dǎo)電型外延層與該第二導(dǎo)電型第一重?fù)诫s區(qū)是作為一高側(cè)二極管,而位于該第二隔離區(qū)中的該基板與該第二導(dǎo)電型外延層是作為一低側(cè)二極管。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于,更包括:
一第二導(dǎo)電型第二重?fù)诫s區(qū),設(shè)于該第一隔離區(qū)中的該第一導(dǎo)電型外延層中,其中該第二導(dǎo)電型第二重?fù)诫s區(qū)具有該第二導(dǎo)電型的離子,且電連接該齊納二極管;以及
一第二導(dǎo)電型第三重?fù)诫s區(qū),設(shè)于該第二隔離區(qū)中的該第一導(dǎo)電型外延層中,其中該第二導(dǎo)電型第三重?fù)诫s區(qū)具有該第二導(dǎo)電型的離子,且電連接該低側(cè)二極管。
3.如權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于,更包括:
一第一導(dǎo)電型第二重?fù)诫s區(qū),設(shè)于該第二隔離區(qū)中的該第一導(dǎo)電型外延層中,其中該第一導(dǎo)電型第二重?fù)诫s區(qū)具有該第一導(dǎo)電型的離子,且電連接該高側(cè)二極管。
4.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于,更包括:
一接觸插塞,同時(shí)電連接該第一導(dǎo)電型第二重?fù)诫s區(qū)及該第二導(dǎo)電型第三重?fù)诫s區(qū)。
5.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于,該第一導(dǎo)電型第二重?fù)诫s區(qū)直接接觸該第二導(dǎo)電型第三重?fù)诫s區(qū)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于新唐科技股份有限公司,未經(jīng)新唐科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610030780.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法





