[發明專利]一種含咔唑結構的聚酰亞胺納米復合材料及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201610016428.4
• 申請日: 2016-01-12
• 公開（公告）號: CN105482116B
• 公開（公告）日: 2018-08-07
• 發明（設計）人: 劉亦武;黃杰;譚井華;柳俊杰;曾義;張海良;劉躍軍;向賢偉
• 申請（專利權）人: 湖南工業大學
• 主分類號: C08G73/10
• 分類號: C08G73/10;C08K3/34;C08K3/04
• 代理公司: 暫無信息
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1.一種含咔唑結構的聚酰亞胺納米復合材料，其特征在于：采用具有高平面性含咔唑結構的芳香二胺、各種四酸二酐和層狀納米粒子為原料，二胺與二酐按摩爾比為1:0.9～1:1.1，層狀納米粒子的質量為二胺和二酐總質量的0.05～30％；二胺的分子結構通式為：

其中Ar₁選自下列結構式中的任何一種：

—C≡CH，—NO₂，—CHO，—OH，—COOH，—SO₃H，—F，—Cl，—Br，—I，其中X₁，X₂，X₃，X₄，X₅選自—CH＝CH₂，—C≡CH，—NO₂，—CHO，—OH，—COOH，—SO₃H中任意結構；

其中Ar₂選自下列結構式中的任何一種：

—H，—CH₃，—CH＝CH₂，—C≡CH，—CHO，—OH，—COOH，—SO₃H，—F，—Cl，—Br，—I，其中X₆，X₇，X₈，X₉，X₁₀選自—CH₃，—CH＝CH₂，—C≡CH，—CHO，—OH，—COOH，—SO₃H中任意結構；

其中，Ar₃選自下列結構式中的任何一種：

n＝0～6，m＝0～6，p＝0～6，同一結構式中的n、m和p不同時為0；

其中，Ar₄選自下列結構式中的任何一種：

a＝1～6，b＝0～6，n＝0～6，b與n不同時為0；

而Ar₃、Ar₄中的Ar₅和Ar₆選自下列結構式中的任何一種：

而Ar₃中的Ar₇選自下列結構式中的任何一種：

2.根據權利要求1所述含咔唑結構的聚酰亞胺納米復合材料，其特征在于：二酐的分子結構式如下所示：

3.根據權利要求1所述含咔唑結構的聚酰亞胺納米復合材料，其特征在于：層狀納米粒子為蒙脫土、石墨烯、云母片、水滑石、層狀結構的氮化硼、層狀結構的氮化碳、層狀結構的黑磷、層狀結構的氧化鐵、層狀結構的二氧化錳、層狀結構的三氧化鉬、層狀結構的三氧化鎢、層狀結構的五氧化二釩、層狀結構的二硫化鉬、層狀結構的二硫化鎢、層狀結構的二硫化鈦、層狀結構的二硫化釩、層狀結構的硒化鎵、層狀結構的二硒化鎢、層狀結構的二硒化鈦、層狀結構的硒化鉍、層狀結構的二碘化鉛、層狀結構的溴化鎂、層狀結構的二氯化鉬、層狀結構的氯化鉻、層狀結構的四氯化鉛、層狀結構的三氯化釕中的一種或多種混合物。

4.根據權利要求1所述含咔唑結構的聚酰亞胺納米復合材料，其特征在于：聚酰亞胺納米復合材料用于制備成粉體或薄膜。