[發明專利]對準標記及掩膜版在審
| 申請號: | 201610012639.0 | 申請日: | 2016-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN105467747A | 公開(公告)日: | 2016-04-06 |
| 發明(設計)人: | 李沖;豐亞潔;何艷;呂本順;郭霞 | 申請(專利權)人: | 北京工業大學 |
| 主分類號: | G03F1/42 | 分類號: | G03F1/42 |
| 代理公司: | 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203 | 代理人: | 劉萍 |
| 地址: | 100124 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 對準 標記 掩膜版 | ||
1.一種對準標記,包括基準標記單元和對準標記單元,其特征在于,
所述基準標記單元包括角度基準標記單元、縱向基準標記單元和橫向基準標記單元,所述對準標記單元包括角度對準標記單元、縱向對準標記單元和橫向對準標記單元,其中,所述角度基準標記單元為十字形狀,所述角度對準標記單元包括4個角度對準標記元素,所述4個角度對準標記元素分別與所述角度基準標記的4個直角配合。
2.根據權利要求1所述的對準標記,其特征在于,所述縱向基準標記單元具有多個橫向長條,所述縱向對準標記單元具有與所述縱向基準標記單元一一相對應的多個橫向長條。
3.根據權利要求2所述的對準標記,其特長在于,所述縱向基準標記單元的多個長條具有不同的寬度,所述縱向基準標記單元的多個長條間的間距不相同。
4.根據權利要求1所述的對準標記,其特征在于,所述橫向基準標記單元具有多個縱向長條,所述橫向對準標記單元具有與所述橫向基準標記單元一一相對應的多個縱向長條。
5.根據權利要求4所述的對準標記,其特征在于,所述橫向基準標記單元的多個長條具有不同的寬度,所述橫向基準標記單元的多個長條之間的間距不相同。
6.根據權利要求1-5任一所述的對準標記,其特征在于,所述角度基準標記單元從其中心沿著其十字交點向外的方向有多個節段,且每個節段的寬度隨著長條向外逐步減小。
7.根據權利要求6所述的對準標記,其特征在于,所述角度對準標記元素為矩形、圓弧或L形。
8.根據權利要求7所述的對準標記,其特征在于,所述基準標記單元和所述對準標記單元還分別包括一個數字,用以標記圖形的周期。
9.應用如權利要求1-8任一項所述的對準標記的方法,其特征在于:首先通過角度對準標記來調整套刻的角度參數,即用該角度標記單元中的角度對準標記單元去對準角度基準標記單元,當在1000倍以上放大倍數的顯微鏡下觀察到角度對準標記單元的邊與角度基準標記單元的邊均為平行,則判斷角度參數已經對準。
然后再通過縱向對準標記和橫向對準標記來分別調整縱向和橫向上的參數,當在1000倍以上放大倍數的顯微鏡下觀察到縱向基準標記單元和縱向對準標記單元橫向上的邊對應重疊時,則判斷縱向上的參數已經對準。當在1000倍以上放大倍數的顯微鏡下觀察到橫向基準標記單元和橫向對準標記單元縱向上的邊對應重疊時,則判斷橫向上的參數已經對準。在調整縱向與橫向的對準過程中,先用寬度和間距大的長條進行粗調,然后再用寬度和間距小的長條進行細調。
10.根據權利要求9所述的方法,其特征在于:當實驗經過幾次套刻以后,角度基準標記單元靠近十字中心的邊已經模糊,且與角度對準標記單元的邊距離很近,使得在顯微鏡下不能判斷是否與角度對準標記單元的邊平行,那么就要用角度基準標記單元遠離十字中心的邊與角度對準標記單元進行平行對準。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
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G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
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G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
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