[發(fā)明專利]有機(jī)發(fā)光元件制造用集群型沉積裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610012259.7
• 申請(qǐng)日: 2016-01-08
• 公開（公告）號(hào): CN105789090A
• 公開（公告）日: 2016-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李在鎮(zhèn);樸喜載
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社SNU精密
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L51/56;C23C14/12;C23C14/24
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;瞿衛(wèi)軍

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種有機(jī)發(fā)光元件制造用集群型沉積裝置，更為詳細(xì)地，涉及一種在 一個(gè)搬送腔室的周圍配設(shè)有多個(gè)工藝腔室、緩沖腔室及堆棧腔室，以縮短有機(jī)發(fā)光元件制 造用工序裝備的整體長(zhǎng)度的有機(jī)發(fā)光元件制造用集群型沉積裝置。

背景技術(shù)

有機(jī)電致發(fā)光顯示器是自發(fā)光型顯示器，不僅視角寬廣、對(duì)比度優(yōu)秀，且響應(yīng)速度 快，因此，作為下一代顯示器備受注目。

如廣為所知，有機(jī)電致發(fā)光顯示器中具備的有機(jī)電致發(fā)光元件由相互對(duì)向的第 一、第二電極(陽(yáng)極電極及陰極電極)及在所述電極之間形成的中間層構(gòu)成，所述中間層里 可具備多種層，例如由空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層等構(gòu)成。

制造具有如上結(jié)構(gòu)的有機(jī)電致發(fā)光元件時(shí)，基板上形成的所述空穴注入層、空穴 傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層及電子注入層等的有機(jī)薄膜或者電極可通過(guò)利用沉積裝置的 沉積方法形成。

所述有機(jī)物沉積方法通常在真空腔室內(nèi)安裝基板之后，加熱裝有要沉積的物質(zhì)的 加熱容器，以蒸發(fā)或者升化其內(nèi)部要蒸發(fā)的物質(zhì)而實(shí)現(xiàn)。即，在基板前面排列具有與在基板 上所要形成的有機(jī)物圖案的形狀相同的開口部的掩模，在所述基板上蒸發(fā)或者升化有機(jī)物 質(zhì)，以在所述基板上沉積有機(jī)薄膜等。

如上所述，為了對(duì)基板進(jìn)行有機(jī)物沉積工序，需要有機(jī)物沉積系統(tǒng)，其由對(duì)于基板 進(jìn)行有機(jī)物沉積工序的工藝腔室、用于向所述工藝腔室移送及從中搬出基板的搬送腔室、 及用于向所述搬送腔室加載或者從中卸載基板的加載/卸載腔室或者加載互鎖腔室構(gòu)成。

另外，最近努力進(jìn)行所述工藝腔室內(nèi)加載兩個(gè)基板，對(duì)所述兩個(gè)基板同時(shí)或者依 次進(jìn)行有機(jī)物沉積工序，以增加對(duì)基板的有機(jī)物沉積收率的研究。

圖1是表示常規(guī)有機(jī)物沉積系統(tǒng)的俯視圖，圖2是用于對(duì)兩個(gè)基板進(jìn)行有機(jī)物沉積 工序的工藝腔室的主視圖，圖3是表示以往的工藝腔室的基板排列過(guò)程的作用圖。

如圖1和圖2所示，以往的常規(guī)有機(jī)物沉積系統(tǒng)由配設(shè)在制造工序的兩端部且用于 加載或者從中卸載基板P的加載/卸載腔室1a、1b和一列配設(shè)在所述加載腔室1a和卸載腔室 1b之間的多個(gè)集群2構(gòu)成。各個(gè)集群2由對(duì)兩個(gè)基板進(jìn)行有機(jī)物沉積工序的工藝腔室120和 向所述工藝腔室120搬入/搬出基板P的搬送腔室130構(gòu)成。

另外，所述加載/卸載腔室1a、1b和搬送腔室130之間具備開閉門，搬送腔室130和 工藝腔室120之間也具備開閉門，以在維持真空的狀態(tài)下能夠移送基板P。

所述工藝腔室120的內(nèi)部?jī)蓚?cè)分別配設(shè)有用于支撐基板P的基板支撐架121a、 121b，內(nèi)底面上設(shè)置有為了在所述基板P上沉積有機(jī)物而往返移動(dòng)于兩側(cè)基板支撐架121a、 121b的下部區(qū)域的沉積源122，所述沉積源122通過(guò)移送裝置123在兩側(cè)基板支撐架121a、 121b的下部區(qū)域沿水平方向往返移動(dòng)。

移送到如上構(gòu)成的所述工藝腔室120內(nèi)的兩個(gè)基板P上沉積從配設(shè)在所述工藝腔 室120的底板側(cè)的有機(jī)物沉積源122中蒸發(fā)的有機(jī)物。

因此，由配設(shè)在所述工藝腔室120內(nèi)的一側(cè)及另一側(cè)上部的基板支撐架121a、121b 所支撐的兩個(gè)基板P上可同時(shí)或者依次沉積有機(jī)薄膜。

另外，移送到所述工藝腔室120內(nèi)的兩個(gè)基板P由配設(shè)在所述搬送腔室130內(nèi)部的 移送單元140移送，所述移送單元140的后端部141能夠旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在所述搬送腔室130的中 央，通過(guò)使關(guān)節(jié)部142折疊來(lái)將前端部143的基板支架144從搬送腔室130的中心點(diǎn)C1前進(jìn)或 后退。因此，由移送單元140移送的基板P，從搬送腔室130的中心點(diǎn)C1放射狀地前后移動(dòng)。

因此，在所述工藝腔室120的內(nèi)部配設(shè)有用于使基板支撐架121a、121b轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn) 單元124，以使基板P通過(guò)移送單元140的前后移動(dòng)而與搬入及搬出的方向并列配設(shè)，或者沿 與沉積源122的移動(dòng)方向并列的方向配設(shè)。

即，以往的沉積裝置在向工藝腔室120搬入或者從中搬出基板P的過(guò)程中，每次利 用轉(zhuǎn)動(dòng)單元124，以使基板P與沉積源122移動(dòng)的方向A1并列旋轉(zhuǎn)，或者與機(jī)械臂前后移動(dòng)的 方向A2并列旋轉(zhuǎn)。因此，工藝裝備及工藝控制復(fù)雜，并且需要在實(shí)現(xiàn)沉積的工藝腔室120內(nèi) 設(shè)置用于使基板支撐架121a、121b旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng)單元124，因此，不僅需要額外地具備防止沉 積物質(zhì)沉積到轉(zhuǎn)動(dòng)單元124的結(jié)構(gòu)，還會(huì)增加維護(hù)項(xiàng)目。

發(fā)明內(nèi)容