[發明專利]一種煤氣在窯爐上的使用方法

在審

• 申請號: 201610010100.1
• 申請日: 2016-01-08
• 公開（公告）號: CN105602624A
• 公開（公告）日: 2016-05-25
• 發明（設計）人: 王萬利
• 申請（專利權）人: 王萬利
• 主分類號: C10J3/20
• 分類號: C10J3/20;C10J3/22
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及煤氣的使用方法。

背景技術

現有技術，沒有開關窯爐煤氣閥，煤氣壓力變化與氧化層的關系。 一次改變煤氣壓力不大于20Pa，窯爐溫度變化速度慢。開關窯爐煤 氣閥，時間不確定，降低窯爐溫度，降低氣化效率。

發明內容

為解決上述問題，本發明的目的是提供一種煤氣的使用方法。

為了實現上述目的，本發明采取下述技術方案，包括：

開大煤氣閥，煤氣壓力每減少10Pa，氧化層上升15-28mm(本 發明沒有特別說明，氧化層指煤氣爐正在發生氧化層化學反應的燃料 層，消耗大部分氧氣，氧化層長度60-120mm，煤氣壓力測量點在煤 氣爐煤氣出口)；

關小煤氣閥，煤氣壓力每增加10Pa，氧化層下降15-28mm；

煤氣爐增加空氣流量，窯爐運行參數正常，窯爐升溫效果差，是 煤氣爐氧化層循環位置低，煤氣熱值低，氧化層上下循環的第一個環 節，氧化層上升60s內，開大煤氣閥，減少煤氣壓力10-20Pa，氧化 層上升20-50mm，或提高煤氣爐飽和溫度0.5-3℃，氧化層上升 20-50mm，作用，升高氧化層循環位置至適當，或縮短與適當的氧化 層循環位置的距離，(適當的氧化層循環位置，指氣化效率最高對應 的氧化層循環位置)，提高氣化效率，提高窯爐升溫速度。

氧化層上下循環的第二環節，單段爐氧化層下降6min后，兩段 爐氧化層下降10min后，包括氧化層上下循環的第三環節，第三環節 是氧化層下降過程的后部，降低飽和溫度0.5-3℃，氧化層下降 20-50mm，還原層下降20-50mm，溫度升高，提高水蒸汽分解率，2min 之內；開大煤氣閥，煤氣壓力減少10-20Pa，氧化層上升20-50mm， 還原層上升20-50mm，溫度降低，降低水蒸汽分解率；氧化層上升距 離基本等于氧化層下降距離，作用，小幅度增加煤氣使用量，增加水 蒸汽分解量，減少或消除適當的氧化層循環位置上升，氣化效率穩定， 窯爐溫度穩定變化

氧化層上下循環的第二環節，單段爐氧化層下降6min后，兩段 爐氧化層下降10min后，包括氧化層上下循環的第三環節，氧化層下 降過程的后部，關小煤氣閥，煤氣壓力增加10-20Pa，氧化層下降 20-50mm，還原層下降20-50mm，溫度升高，提高水蒸汽分解率；下 一個氧化層循環周期，氧化層上下循環的第一環節，氧化層上升60s 內，提高飽和溫度0.5-3℃，氧化層上升20-50mm，還原層上升 20-50mm，溫度降低，降低水蒸汽分解率；氧化層下降距離基本等于 氧化層上升距離，作用，小幅度減少煤氣使用量，增加水蒸汽分解量， 減少或消除適當的氧化層循環位置下降，氣化效率穩定，窯爐溫度穩 定變化。

開大煤氣閥，煤氣壓力減少30-60Pa，氧化層上升60-160mm， 小于、等于氧化層長度，或大于氧化層長度60mm之內，還原層上升 距離等于氧化層上升距離，1-4min，氧化層溫度升至950-1250℃；降 低飽和溫度2-8℃，氧化層下降60-160mm，小于、等于氧化層長度， 或大于氧化層長度60mm之內，還原層下降距離等于氧化層下降距 離，開始還原層溫度950-1250℃，提高水蒸汽分解率，單段爐9-11min， 兩段爐13-16min，飽和溫度升高1-8℃；減少和消除蒸汽壓力增長， 單段爐2-5min，兩段爐4-10min；氧化層上升距離等于氧化層下降距 離，或氧化層上升距離小于氧化層下降距離30mm之內，作用，一次 大幅度增加煤氣使用量，增加水蒸汽分解量，減少蒸汽壓力增長改變 氧化層位置，窯爐升溫多。